|
iPhone 4作推手 背照式感光元件正夯 (2010.09.16) 在iPhone 4的帶動之下,背照式感光元件(Backside Illumination Sensor;BSI)在智慧型手機的應用越來越廣泛。其他智慧型手機製造商也逐漸跟隨iPhone 4的腳步,開始採用背照式感光元件 |
|
FSI的ViPR製程為超高劑量離子植入關鍵技術 (2008.06.19) FSI International宣佈,具備ViPR技術的FSI ZETA Spray Cleaning System噴霧式清洗系統已獲國際論文驗證,是超高劑量電漿輔助摻雜(PLAD)離子植入整合時的關鍵步驟。此一論文是於今年6月8至13日在美國加州蒙特利舉行的第十七屆國際離子佈植技術學術研討會期間,由Hynix、Varian、Nanometrics與FSI四大廠商所共同發表 |
|
FSI取得矽化物形成製程的重大突破 (2008.01.04) 半導體製程設備、技術及支援服務供應商FSI International宣佈,該公司可在矽化物形成後採用FSI ViPR技術成功去除未反應的金屬薄膜。藉由導入此一新製程,IC製造商將可在鈷、鎳和鎳鉑矽化物整合過程中,大幅減少化學品使用量並降低成本 |
|
FSI-媒體茶會 (2007.04.10) 全球半導體製程設備、技術及支援服務供應商--FSI International將在亞洲舉行一年一度的Knowledge Service系列研討會,以協助半導體製造商進一步瞭解影響產業的各項議題與趨勢,以及最先進的表面處理技術 |
|
FSI-媒體茶會 (2007.04.10) 全球半導體製程設備、技術及支援服務供應商--FSI International將在亞洲舉行一年一度的Knowledge Service系列研討會,以協助半導體製造商進一步瞭解影響產業的各項議題與趨勢,以及最先進的表面處理技術 |
|
FSI知識服務研討會(台南) (2007.03.21) FSI知識服務研討會今年將再度於亞洲舉行。此次並擴大規模舉辦,增加新加坡及台南兩地。此系列研討會除提供專業知識之外,亦可與業界菁英交流,擴增人脈。活動現場將由FSI及晶圓廠專家針對FSI設備用以解決產業界中所面對的清潔製程挑戰,做一說明 |
|
FSI知識服務研討會(台南) (2007.03.21) FSI知識服務研討會今年將再度於亞洲舉行。此次並擴大規模舉辦,增加新加坡及台南兩地。此系列研討會除提供專業知識之外,亦可與業界菁英交流,擴增人脈。活動現場將由FSI及晶圓廠專家針對FSI設備用以解決產業界中所面對的清潔製程挑戰,做一說明 |
|
FSI知識服務研討會(新竹) (2007.03.21) FSI知識服務研討會今年將再度於亞洲舉行。此次並擴大規模舉辦,增加新加坡及台南兩地。此系列研討會除提供專業知識之外,亦可與業界菁英交流,擴增人脈。活動現場將由FSI及晶圓廠專家針對FSI設備用以解決產業界中所面對的清潔製程挑戰,做一說明 |
|
FSI知識服務研討會(新竹) (2007.03.21) FSI知識服務研討會今年將再度於亞洲舉行。此次並擴大規模舉辦,增加新加坡及台南兩地。此系列研討會除提供專業知識之外,亦可與業界菁英交流,擴增人脈。活動現場將由FSI及晶圓廠專家針對FSI設備用以解決產業界中所面對的清潔製程挑戰,做一說明 |
|
FSI獲浸泡式清洗製程設備訂單 (2006.06.19) 半導體製程設備、技術及支援服務供應商FSI International宣布,一家全球領先的美國半導體公司已向FSI訂購多套8/12英吋晶圓混用型MAGELLAN浸泡式清洗製程設備;該公司是由於MAGELLAN能提供最好的微粒清洗效果和蝕刻均勻性而決定採購這套製程設備 |
|
FSI ANTARESR清洗設備再創佳績 (2005.07.05) 全球性半導體製程設備、技術及支援服務供應商-FSI International日前宣佈,由於歐洲、亞太地區、日本和美國主要半導體廠商的需求強勁,該公司ANTARESR CryoKinetic清洗設備的銷售在2005年第三個會計季再創佳績 |
|
FSI的CryoKinetic技術受90奈米晶圓生產商青睞 (2005.07.04) 半導體製程設備、技術及支援服務供應商FSI International宣佈,由於歐洲、亞太地區、日本和美國主要半導體廠商的需求強勁,該公司Antares CryoKinetic清洗設備的銷售在2005年第三個會計季再創佳績 |
|
FSI噴霧式晶圓清洗設備獲多家12吋廠採用 (2004.12.30) 半導體晶圓清洗設備供應商FSI International前宣佈,該公司12吋晶圓噴霧式清洗設備接獲多張續購訂單,其中台灣一家主要的半導體製造廠商計畫將這套清洗設備用於90奈米前段製程的表面處理,另一家重要微處理器製造廠商則會將所訂購的清洗設備用於後段製程 |
|
FSI新式晶圓清洗設備獲歐洲半導體大廠採用 (2004.11.24) 晶圓表面處理設備與技術供應商FSI International宣佈該公司ANTARE清洗設備,已獲得一家歐洲IC製造大廠的訂單,這家歐洲IC製造商是在評估FSI設備的微粒缺陷去除能力後,決定將在前段和後段製程中利用這套設備處理先進元件 |
|
Novellus客戶整合中心將採用FSI晶圓清洗設備 (2004.05.19) 專長於晶圓表面清洗相關技術的設備業者FSI與宣佈與Novellus Systems簽訂合作協議,加入多家半導體設備廠商所組成的Damascus Alliance,共同推動銅質雙鑲崁(Dual Damascene)導線製程的整合以支援先進元件製造 |
|
FSI晶圓表面處理設備訂單Q2成長六成 (2004.04.15) 晶圓清洗設備業者FSI,日前宣佈該公司8吋和12吋晶圓噴霧式清洗設備ZETA,在2004年第二季獲得多家半導體製造商訂單,這些客戶包括美國、歐洲、亞太區以及日本等地之IC製造及封裝廠商業者;FSI表面處理設備的訂單數量亦因此在第二季大幅成長,較前一季增加六成 |
|
FSI將在台舉辦最新晶圓表面處理技術研討會 (2004.03.17) 半導體製程設備業者FSI將於3月23日在新竹煙波大飯店舉辦最新表面處理技術研討會,FSI表示,該研討會將涉及各種表面處理技術的應用,除邀請來自FSI、晶片製造商和化學清洗供應商的專家發表專題演講,會中並將發表多項表面清洗技術應用方案及論文 |
|
FSI乾式晶圓清洗系統獲日本大廠採用 (2003.12.15) 全球性半導體製程設備業者FSI日前宣布,該公司配備AspectClean技術的多反應室 ANTARES CX 先進清潔系統已獲一家日本IC製造業者採用;該系統將被應用在130奈米及以下前段與後段的清洗製程上,進行平面與元件結構上的微污染顆粒清除程序 |
|
美呈科技與華紹國際提早終止代理權協議 (2002.10.11) 美呈科技(Metron Technology)與華紹國際(FSI International)在日前發表聲明,提早終止雙方原先所協議的終止有效日為2003年3月1日在歐洲及亞太地區的通路協定。依照過渡協議條款,從2003年3月1日起,FSI將承擔其表面處理技術與微影技術產品,在歐洲及亞太地區的直銷、服務及應用支援,與物流責任 |