帳號:
密碼:
最新動態
 
產業快訊
CTIMES/SmartAuto / 新聞 /
Novellus客戶整合中心將採用FSI晶圓清洗設備
 

【CTIMES/SmartAuto 鄭妤君 報導】   2004年05月19日 星期三

瀏覽人次:【3813】

專長於晶圓表面清洗相關技術的設備業者FSI與宣佈與Novellus Systems簽訂合作協議,加入多家半導體設備廠商所組成的Damascus Alliance,共同推動銅質雙鑲崁(Dual Damascene)導線製程的整合以支援先進元件製造。FSI並計劃於7月在Novellus的客戶整合中心(Customer Integration Center;CIC)安裝完全自動化的12吋晶圓噴霧式清洗設備ZETA。

Damascus Alliance成立於1998年,包括Lam Research、FEI和Keithley等業界領導廠商都是聯盟成員。透過這種開放式聯盟的概念,客戶將藉此獲得最佳效能及成本的解決方案,以推出具市場區隔性的產品。FSI在銅質和低介電常數(Low-K)材料雙鑲崁製程的介層蝕刻後(post via etch)、溝槽蝕刻後(post trench etch)、阻障層蝕刻後(post barrier etch cleaning)等清洗以及其它表面處理等領域擁有專業能力,正可與聯盟其他廠商成員相輔相成,以發揮更大效益。

Novellus位於美國加州聖荷西(San Jose)的客戶整合中心佔地3萬平方英呎,並擁有功能齊全的實驗室環境,可讓客戶有機會解決將影響元件效能、良率、可靠性和製造成本的銅導線和Low-K介質製程的整合問題,並且處理銅導線鑲崁的製造問題。中心內擁有完整的金屬和介質沉積設備、表面清洗設備、化學機械研磨(CMP)設備、蝕刻設備以及各種測試設備,以完整的結構建置進行參數、電子遷移(electromigration)和BTS測試。

FSI的ZETA噴霧式清洗設備為8吋和12吋晶圓提供全自動化機台配置,8吋和6吋晶圓則為半自動化機台配置。ZETA設備已經驗證能支援各種應用,包含前段製程的光阻去除和電漿灰化後清洗、後段製程的電漿灰化後清洗、矽化物去除、晶圓凸塊清洗以及監測晶圓回收 (wafer reclaim)等。

這套設備採用離心式噴霧技術,矽晶片會在充滿氮氣的密閉反應室內以乾進乾出的方式完成清洗製程,而FSI獨特的化學物質輸送技術則能在控制成分比例與溫度下完成化學物質的準備然後直接以噴霧方式均勻的噴灑於旋轉中的晶圓表面,以達到最佳的清洗效能。

關鍵字: FSI  半導體製造與測試 
相關新聞
iPhone 4作推手 背照式感光元件正夯
FSI的ViPR製程為超高劑量離子植入關鍵技術
FSI取得矽化物形成製程的重大突破
FSI獲浸泡式清洗製程設備訂單
FSI ANTARESR清洗設備再創佳績
comments powered by Disqus
相關討論
  相關文章
» 最佳化大量低複雜度PCB測試的生產效率策略
» 確保裝置互通性 RedCap全面測試驗證勢在必行
» ESG趨勢展望:引領企業邁向綠色未來
» 高階晶片異常點無所遁形 C-AFM一針見內鬼
» 高速傳輸需求飆升 PCIe訊號測試不妥協


刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BA84XN7ASTACUKA
地址:台北數位產業園區(digiBlock Taipei) 103台北市大同區承德路三段287-2號A棟204室
電話 (02)2585-5526 #0 轉接至總機 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw