半導體製程設備、技術及支援服務供應商FSI International宣佈，由於歐洲、亞太地區、日本和美國主要半導體廠商的需求強勁，該公司Antares CryoKinetic清洗設備的銷售在2005年第三個會計季再創佳績。Antares設備過去主要用於後段製程的瑕疵去除，現在隨著愈來愈多客戶開始利用90奈米技術生產半導體元件，這套清洗設備也獲得更多廠商採用。

除此之外，創新的噴嘴設計和製程能力也將Antares清洗設備的應用範圍擴大到前段製程瑕疵去除，尤其是它能在不損壞或蝕刻表面材料的情形下，將脆弱閘極結構上的微粒去除。

FSI主席暨執行長Don Mitchell表示：「Antares清洗設備持續獲得全球客戶新增與續約訂單的熱烈支持。隨著90奈米製造進入量產，未來新技術又逐步投入應用，我們預期客戶對於這套設備的興趣將繼續增加。在先進半導體元件製造的環境下，銅金屬、多孔性低介電係數和其它先進材料以及精密電路結構都要求不會造成表面損害的清洗技術，而CryoKinetic技術為IC製造商提供一套可靠和實證有效的方法，幫助他們提高生產良率。」

目前已有超過10家主要半導體廠商對於Antares設備減少瑕疵和提高良率的卓越能力表示肯定。FSI在第三個會計季不但收到多家半導體廠商的後續訂單，還將評估系統提供給許多有意購買的新客戶，公司並在一次成功的實際展示後收到一份評估訂單以及某家新客戶的首次採購訂單。

Antares設備是全自動化單晶圓CryoKinetic平台。這套設備可以處理12吋和8吋晶圓，無論是去除表面微粒瑕疵或提升客戶的製造良率，都已創下許多成功的記錄。AspectClean製程更可為使用者提供先進元件製造所需的瑕疵去除能力。Antares設備採用非反應性的全乾式處理法，它能在前段和後段製程中處理平面以及包含低k結構在內的圖案化結構，進而去除這些平面和結構的瑕疵，不會造成k值改變或導線損害，其效果遠勝過傳統的清洗技術。