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65到45：半導體製程微細化技術再突破 (2006.11.27)
當半導體微細化製程從65奈米邁向45奈米、甚至晶片結構體尺寸將朝向32或是22奈米之際，我們將會面臨什麼未知的物理性質變化？為了追尋更微小體積、切割更多晶片的商業成本效益 |
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193奈米機台到位 台積電浸潤式微影邁新局 (2004.11.08)
據業界消息，台積電積極推動的半導體新一代技術浸潤式（immersion）微影技術，又向前邁進一步，該公司向設備大廠ASML採購的193奈米雛形機已經運抵新竹，並正式移入台積電12廠，台積電研發部門將利用該設備進行相關製程研發，並預計於65奈米世代量產此技術 |
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全球奈米電子技術現況與趨勢探討 (2004.08.04)
為成為下一世代的市場贏家，奈米級先進製程已經成為全球各大半導體產商積極投入之研究領域，而隨著製程不斷朝向65奈米、45奈米及32奈米以下尺寸推進，所面臨的技術挑戰也更加艱難 |
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台積電預計7月完成193奈米浸潤式顯影裝機 (2004.05.09)
據Digitimes報導，台積電預計2004年7月完成全球首台193奈米浸潤式顯影（Immersion Lithography）機台裝機，將以65奈米製程切入，再向下延伸到45奈米、32奈米製程。台積電資深研發副總蔣尚義表示，該公司浸潤式顯影技術是在曝光源與晶圓加入水作為波長縮短介質，可微縮到132奈米，遠低於157奈米微影機台波長 |
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台積電、聯電積極研發奈米級晶圓製程技術 (2003.12.06)
聯電、台積電雙雄加速晶圓高階製程研發，聯電宣布率先導入無絡膜相位移光罩（Cr-less PSM）技術，成功量產90奈米製程，同時採購193nm光學掃描機，台積電也向設備大廠ASML採購193奈米浸潤式微影設備，發展65奈米製程 |
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台積電宣布取消157奈米微影設備訂單 (2003.10.16)
晶圓代工大廠台積電宣佈取消157奈米微影訂單，轉向為濕浸式科技（immersion technology）背書，此一消息對半導體設備大廠ASML來說不啻是一大打擊，也是繼英特爾（Intel）放棄157奈米微影技術設備藍圖，計劃以193奈米掃瞄機微影技術，進90奈米以下先進製程後，157奈米微影技術的另一挫敗 |
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台積電估計90奈米製程成長速度不及0.13微米 (2003.10.08)
台積電資深研發副總蔣尚義日前表示，目前台積電已有40多項90奈米產品導入試產，預計將在1年後導入量產，但因90奈米製程市場需求增加速度可能不及0.13微米製程，估計三年以後客戶才會大量使用此先進製程 |
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台積電宣佈突破65奈米製程之曝光技術瓶頸 (2003.09.13)
台積電宣佈於2003年第三季導入90奈米製程，預計2004年初可有少量產品出貨；此外台積電行銷副總胡正大亦表示，該公司已針對65奈米製程相關微影（Lithography）機台光源的瓶頸研發出突破之道 |
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半導體設備市場復甦中 量測系統表現亮眼 (2003.06.09)
據研究機構Information Network最新報告指出，半導體設備市場歷經兩年的低潮期已經開始逐漸復甦，因晶片業者紛紛在2003年增加資本支出，其中量測檢測（Metrology and Inspection；M&I）系統設備的營收，較去年成長11.5％，預計2003年可達到近28億美元的市場規模 |
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Intel棄守157奈米微影技術 對大陸業者影響有限 (2003.06.02)
據Digitimes報導，英特爾決定放棄採用157奈米微影技術，藉由193奈米微影機輔以相位移光罩（phase shifting mask；PSM）技術，進行90及45奈米加工技術生產措施，將使得以英特爾為首的國際晶片大廠局勢產生巨大變化，大陸半導體業界對此事均表示關注，由於大陸IC設計公司普遍沒有進入到奈米時代，該決定對大陸產業影響不大 |
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英特爾宣布棄守157奈米微影技術 (2003.05.30)
據外電報導，英特爾（Intel）日前宣布將放棄157奈米微影技術，繼續使用193奈米微影製程；而此舉為業界為邏輯晶片業者投下2個疑問：其一是業界是否會因為採取不同微影技術設備，而分成兩大陣營；另外一個疑問便是，英特爾放棄157奈米微影設備的舉動，將會為半導體設備業界帶來什麼影響 |
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微影技術再添喜訊 157奈米突破瓶頸 (2002.09.20)
全球半導體技術聯盟於今年3月對外表示，157 奈米出現物性技術瓶頸，將延後半導體廠進入70奈米米製程的時程。但是近日舉辦的第三屆157奈米微影技術國際座談會，會中有專家指出 |
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Mentor Graphics Calibre部門與IMEC合作 (2002.06.03)
Mentor Graphics於5月28日宣佈，Mentor Calibre部門已和IMEC達成一項合作協議，將共同發展次波長微影技術（subwavelength microlithography）。IMEC是歐洲最重要的獨立研究中心，研究領域涵蓋微電子、奈米技術、資訊和通信系統的設計方法和技術 |
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黃光技術力求突破 (2001.09.01)
黃光，即是為避免產品曝光，產品在黃光下進行一連串的半導體微影製程動作，目前已有的微影技術為可見光、近紫外光、中紫外光、深紫外光、真空紫外光、極短紫外光 |
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NB大廠採用英特爾處理器Tualatin (2001.06.30)
根據報導，英特爾(Intel)位於奧勒崗州(Oregon)第二座12吋晶圓廠，將安裝157奈米微影設備，導入0.07微米製程。該公司Tualatin處理器將搶攻筆記型電腦市場，並於下週推出1.6及1.8GHz Pentium 4處理器 |
