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Intel棄守157奈米微影技術 對大陸業者影響有限
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2003年06月02日 星期一

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據Digitimes報導,英特爾決定放棄採用157奈米微影技術,藉由193奈米微影機輔以相位移光罩(phase shifting mask;PSM)技術,進行90及45奈米加工技術生產措施,將使得以英特爾為首的國際晶片大廠局勢產生巨大變化,大陸半導體業界對此事均表示關注,由於大陸IC設計公司普遍沒有進入到奈米時代,該決定對大陸產業影響不大。

大陸晶片製造業者普遍認為,英特爾此次動作對當地業界影響甚微,由於大陸半導體晶片生產技術普遍在0.25微米以下,談奈米時代為時尚早,整體訂單量也並不與英特爾造成衝突,所以大陸產業界雖對此深為關注,但並不認為將成為威脅。

但相較於製造業所持安然態度,大陸IC設計業者則有所反應,生產高階DSP射頻晶片及CPU生產廠商對此深為關注。由於高階IC設計公司的生產訂單,基本上均不在大陸完成生產,對於技術更新變革極為敏感,由於在德儀及英特的通訊晶片等領域發生任何事件,都將直接影響到大陸市場,所以大陸相關IC設計公司均對此表示密切關注。

IC設計業者認為,英特爾極有可能針對其目前提出的通訊市場與計算平台,融合領域進行生產技術調整。目前大陸從事DSP等晶片生產的IC設計公司未來訂單走向,將會考慮如何與英特爾這樣潛在的通訊市場最大競爭者抗衡,雖然大陸目前IC設計水準,並未達到能與國外大廠相抗衡的地步,但在未來競爭中將難免成為對手。

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