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異質整合 揭櫫半導體未來20年產業藍圖 (2019.10.09)
晶片的設計和製造來到一個新的轉折。於是,異質整合的概念,就砰然降臨到了半導體的舞台上。它是驅動半導體未來20~30年最重要的發展趨勢。
矢志成為IC設計界的建築師 (2019.10.03)
再龐大複雜的電路設計,也要從最根本的架構來發想,而且一但架構錯了,後面再怎麼補,也難竟全功,這是擷發科技的核心商業模式。
半導體產業換骨妙方 異質整合藥到病除 (2019.10.02)
異質整合是助力半導體產業脫胎換骨的靈丹妙藥,以結合具備不同材料特性和物理需求的功能區塊,打造高整合、低功耗又小巧的的晶片設計。
邏輯製程演進下之IC製造產業競爭態勢 (2013.08.09)
隨著2013年的經濟景氣可望較2012年復甦,半導體市場亦有回甦景象。位居全球領導地位之晶圓製造業者除公布2013年第一季經營狀況之外,亦紛紛發表未來的資本支出規劃和先進製程提升藍圖
採用三閘極3D技術的新一代FPGA (2013.07.07)
2013年2月,Altera和英特爾(Intel)共同宣佈新一代Altera的高性能FPGA產品將獨家採用英特爾的14奈米3D三閘極電晶體技術。這代表著FPGA也已跨入3D電晶體世代了。 全球領先的半導體公司都不斷地針對3D電晶體結構進行最佳化和可製造性研究
跨領域結合 台灣高階醫材找機會 (2013.06.21)
當行動裝置已經融入人們生活後,消費者已習慣行動裝置所帶來的便利性,這樣的特性不只在消費性電子產業中,也帶進醫療設備裡,醫療電子產品的趨勢正往微型化、可攜式、無線連接的方向發展,而資通訊技術在健康照護產業的應用上更是急速的成長中
高容量記憶體 可望因3D IC而不再是奢侈品 (2010.06.24)
旺宏電子今日(6/24)發表最新的3D NAND Flash研究成果,其總經理盧志遠表示,這顆3D IC與一般討論的Sip、TSV技術不同,但是能夠大幅降低Bit Cost。未來若能步入量產,可以解決高容量記憶體成本高昂的問題,最高目標希望能與硬碟並駕齊驅,甚至超越硬碟
從3D IC/TSV 的不同名詞看3D IC 技術 (下) (2010.05.05)
目前,3D-IC定義並不相同,有人認為只要將一顆 die 放在一個substrate 上就是 3D integration,這似乎與將Chip 放在PCB上面沒有兩樣,頂多稱之為3D Package。3D-IC與3D 封裝 (package)不同的是,3D Package 裡面的元件是離散的,都是在元件的週邊利用 bonding wire 相接,但是 3D IC 卻是一個獨立的 IC,透過垂直與水平整合來大量提高集積密度
諾發發表新一代電漿化學氣相沉積製程 (2010.05.05)
諾發系統日前宣佈,已在VECTOR PECVD平台上開發出,具有晶圓對晶圓間膜厚變異小於2埃的精密抗反射層薄膜(ARL)。這種新製程採用VECTOR特有的多重平台序列式沉積工藝技術架構(MSSP),以達成沉積的ARL薄膜具有格外均勻的薄膜厚度,折射率(n)和消光係數(K)
從節能省碳談3D IC (2009.07.03)
CPU節能功率已面臨瓶頸,氣冷式散熱功能也面臨極限,SoC散熱和漏電流問題亦迫在眉睫,資料中心更是節能省碳的重點。3D IC降低功耗設計可有效降低RF功耗、明顯提升記憶體效能,有助建構綠色資料中心,用3D Stack技術大幅降低伺服器記憶體功耗,3D IC符合節能省碳環保潮流
3D IC有其他好處嗎? (2009.05.05)
3D IC必須要由電子電路的工程師與封裝設計的工程師一起共同工作,藉由垂直與水平整合達到大量提高集積密度的要求。3D IC可進一步減少 ESD 需求、有效提高散熱效果、提高良率,並具備可延展性/可規畫性/可替換性
ASM和SAFC簽訂認證製造廠商與合作協定 (2009.01.16)
ASM International N.V.和 Sigma-Aldrich子公司SAFC旗下的SAFC Hitech宣布針對進階超介電常數絕緣層(advanced Ultra High-k insulators)之特定原子層沉積(ALD)原料簽訂認證製造廠商與合作協定。 該協定提供化學原料之認證標準、特定ASM ALD 專利之授權許可,以及針對這些化學原料的行銷與進階開發合作關係
Qcept非光學可視性缺陷檢測系統獲Soitec使用 (2008.12.24)
半導體製造業新型晶圓檢測系統開發商Qcept(Qcept Technologies Inc.)宣布絕緣層上覆矽(SOI)與其他工程基板的供應商Soitec公司,將採用其ChemetriQ 3000非光學可視性缺陷(NVD)檢測系統
低電壓射頻接收器前端電路於CMOS製程之挑戰與實現 (2008.10.07)
近年來,基於成本及整合的考量,使用CMOS製程來實現RF IC已漸趨主流。然而,CMOS本身的轉導較GaAs或BJT來得低,所以設計上的挑戰相對較大,特別是當低電壓使用時。本文以CMOS元件作出發點
Qcept提供晶圓快速線上非光學可視性缺陷偵測 (2008.06.13)
Qcept的ChemetriQ 3000提供整片晶圓的快速線上非光學可視性缺陷(NVDs)偵測,包括了有機、無機、金屬污染、製程導致的電荷、水漬或其他的非光學可視性缺陷。NVDs無法以光學檢測系統探測,在尖端晶圓廠中,佔了所有缺陷的30%
非揮發性記憶體的競合市場 (2007.10.24)
記憶體本身就具有通用與中介的性質,所以發展出來的各類記憶體元件,多能通用於不同系統之間。新一代的記憶體為了更通用之故,所發展的都是非揮發性的記憶體,這樣才能既做為系統隨機存取之用,又能組成各類的儲存裝置,例如嵌入在可攜式裝置中的儲存容量、彈性應用的記憶卡或固態硬碟等
統計型時序分析 (2007.08.20)
若IC設計不考慮相關性,而只用一些簡單分佈的情況做為設計依據,則許多原可利用的margin將浪費掉。為充分利用此一特性,最近在數位IC的時序領域熱切提出了一種新的時序分析方法--統計型時序分析(Statistical Timing Analysis-SSTA)
65到45:半導體製程微細化技術再突破 (2006.11.27)
當半導體微細化製程從65奈米邁向45奈米、甚至晶片結構體尺寸將朝向32或是22奈米之際,我們將會面臨什麼未知的物理性質變化?為了追尋更微小體積、切割更多晶片的商業成本效益
微電子大都會的建築師 (2006.11.27)
就像大都會的建築,依照晶片接合結構來說,SiP大致上可三類:平面結構、堆疊結構以及內藏結構。其晶片可以經由陶瓷、金屬導線架、有機基板壓合或增層,甚至於矽基板或膠帶式軟性基板等來承載
以全溼式單晶圓清洗方式領導市場 (2006.10.31)
晶圓清洗在半導體製程的多項步驟,包括前段製程與後段製程(BEOL與FEOL)都會出現。對於製程來說,晶圓清洗的重要性取決於減少晶圓前、後兩面上粒子與污染物質,還能同時進行溼式表面準備動作的能力


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