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CTIMES / 鄭伃君
科技
典故
簡介幾個重要的Bus規格標準

總的來說,一系列與時俱進的Bus規格標準,便是不斷提升在電腦主機與周邊設備之間,資料傳輸速度、容量與品質的應用過程。下面我們就簡介幾個重要的匯流排應用規格標準。
台積電0.18微米40伏特高電壓製程成功量產 (2004.11.27)
晶圓大廠台積電宣佈該公司已成功使用0.18微米40伏特高電壓製程技術,為客戶量產手持式薄膜液晶顯示器(TFT LCD)晶片。此項製程技術為客戶提供系統單晶片解決方案,甚具突破性意義,能夠減少先進手持式產品顯示器晶片的數目、縮小基板面積、節省耗電量以及增加顯像效能
市調機構看壞2005年晶片市場景氣 (2004.11.02)
原本IC業界皆樂觀認為2004年全球晶片銷售將創下新高紀錄,並且認為市場對2005年成長率4%的預測太過保守,但如今的市況卻是愁雲密布,各家晶片業者財報一片慘綠,各領域晶片需求也出現放緩跡象,晶片庫存水位升高所引發的潛在危機不可忽視
應用材料新式CVD技術 適用65奈米以下製程 (2004.07.29)
半導體設備大廠應用材料宣布推出應用於65奈米及以下製程的化學氣相沉積(CVD)技術Producer HARP(high aspect ratio process;高縱深比填溝製程)系統;該系統技符合淺溝隔離層(Shallow Trench Isolation;STI)和前金屬介質沉積(Pre-Metal Dielectric;PMD)等製程設備所需之大於7:1高縱深比的填溝技術條件
Dow Corning超越半導體材料領域 轉變營運策略 (2004.06.07)
半導體材料供應商Dow Corning宣布推出一項合作計畫,目標為協助電子產業客戶解決商業問題、掌握新興商機。該公司表示,此Electronic Solutions合作計劃是Dow Corning超越材料供應領域的一項重大策略轉變
以先進材料技術解決電子產品散熱問題 (2004.05.26)
材料對於現代的電子產品來說,可說是與IC零組件同等重要的構成元素之一,有先進的材料科技與精密的IC設計技術充分搭配,才能真正達成讓電子產品的效能表現最佳化的目標
半導體業者積極擴產 設備市場商機旺 (2004.05.24)
根據國際半導體設備與材料協會(SEMI)所公佈的最新統計數據,4月全球半導體設備訂單出貨比(B/B值)為1.14,比3月的1.09回升,也是四個月以來首度止跌上升,顯示第二季是半導廠密集裝機期,預期景氣復甦訊號更為明顯
TPMS開啟汽車電子新一波商機 (2004.05.21)
隨著汽車在各方面性能上的提昇與對駕駛安全性的重視,IC零組件可說在其中扮演了越來越吃重的角色,也因為如此,汽車電子成為許多半導體大廠爭相投入的領域,其發展潛力備受矚目
FSI晶圓表面處理設備訂單Q2成長六成 (2004.04.15)
晶圓清洗設備業者FSI,日前宣佈該公司8吋和12吋晶圓噴霧式清洗設備ZETA,在2004年第二季獲得多家半導體製造商訂單,這些客戶包括美國、歐洲、亞太區以及日本等地之IC製造及封裝廠商業者;FSI表面處理設備的訂單數量亦因此在第二季大幅成長,較前一季增加六成
台積電大陸8吋廠第二階段遞件 期望年底量產 (2004.04.12)
據路透社報導,晶圓大廠台積電已於日前向經濟部投審會遞送大陸上海松江8吋晶圓廠投資計畫的第二階段審查申請文件,並期望該廠可在年底能順利小量生產。但投審會並不願對該申請案多作說明

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