|
明導提供中芯Eldo類比電路模擬器發展微米製程 (2006.01.09) 電子硬體與軟體設計解決方案明導國際(Mentor Graphics)宣佈,中國大陸主要晶圓代工廠商中芯國際已選擇Mentor Eldo模擬工具做為其內部的類比電路SPICE模擬器,中芯是根據Eldo已通過考驗的模擬效能和收斂能力決定採用這套模擬工具 |
|
明導國際與QuickLogic簽署OEM協議 (2006.01.02) 明導國際(Mentor Graphics)日前宣佈與QuickLogic簽署多年OEM協議。明導國際表示,這份新協議不但為QuickLogic客戶帶來強大的合成工具,還能幫助他們順利轉移到Mentor Graphics完整先進的FPGA合成技術與工具 |
|
明導國際台灣區U2U使用者大會圓滿成功 (2005.11.30) EDA電子自動化廠商─明導國際(Mentor Graphics),在台灣地區所舉辦的第一次使用者大會,已於11月24日圓滿閉幕。此次盛會共吸引超過400名來自全台灣各地的客戶及工程師前來參加 |
|
明導國際 2005 User2User使用者大會 (2005.11.02) 全球領先的EDA電子自動化廠商─Mentor Graphics 明導國際,自1981年成立至今,不斷致力於提供技術創新的軟硬體設計解決方案,成功地協助電子產品製造商以更短時間、更低成本在市場上推出創新產品 |
|
明導國際Calibre套件 協助設計人員工作執行 (2005.08.31) 明導國際(Mentor Graphics)日前宣佈已將Calibre實體驗證與寄生參數摘取工具整合至Cadence設計輸入環境。隨著Calibre Extracted View加入Calibre Interactive,類比以及類比/混合訊號晶片設計人員現在就能執行後佈局分析和模擬,以便建立精確的奈米晶片模型 |
|
年度EDA技術論壇 (2005.08.11)
|
|
Actel和Mentor Graphics合作強化客戶FPGA經驗 (2004.10.11) Actel和Mentor Graphics宣佈最新版本的Mentor Graphics Precision RTL合成工具可在使用Actel以Flash為基礎通電即可工作ProASIC Plus系列現場可編程閘陣列(FPGA)元件的設計中大幅提升性能。與先前的軟體版本相比,使用Precision RTL合成工具的客戶預計可提升時鐘頻率平均達18% |
|
Simtek採用明導Calibre xRC寄生參數萃取工具 (2004.05.20) Mentor Graphics於5月12日宣佈,Simtek已採用Calibre xRC寄生參數萃取(parasitic extraction)工具作為它奈米設計的解決方案,並利用它來設計高效能的資料非揮發性記憶體。Calibre xRC為訊號及電源線路分析提供最佳化的階層式寄生參數資料,又能和Nassda的後佈局階層式模擬工具HSIM整合,這是Simtek選擇它的主要原因 |
|
以單一平台工具解決SoC設計驗證難題 (2004.04.05) (圖一) 明導國際亞太地區總裁楊正義
在IC設計走向SoC(系統單晶片)的趨勢之下,解決晶片設計流程中因類比(Analog)與混合訊號(Mixed Signal)比重日益提高所帶來的功能驗證(Verification)難題 |
|
明導國際亞太區總裁新上任 (2003.11.03) 新任亞太區總裁-楊正義先生於11月3日正式走馬上任。楊正義先生前後分別畢業於國立交通大學及國立清華大學,擁有電腦碩士的學位,曾任研揚總經理,負責開創研揚海外版圖,包括中國、韓國、日本及歐美等國 |
|
鎖定技術專長領域 迎戰IC設計奈米時代 (2003.07.05) 茅華認為,在IC製程走向深次微米與奈米時代,FPGA設計與IC後段的實體驗證,將是EDA業者可發揮專長與競爭力的主要領域。 |
|
Mentor Graphics完整設計工具流程克服複雜FPGA設計挑戰 (2003.05.29) 明導國際 (Mentor Graphics) 於日前推出完整的FPGA設計流程,利用新技術擴大傳統FPGA工具,以克服新出現的複雜FPGA設計挑戰。新流程由三個部份組成,支援範圍從高階FPGA設計到電路板設計,並能針對FPGA、嵌入式系統以及內含FPGA的電路板,提供它們設計和驗證所需的現有和未來技術 |
|
Mentor驗證解決方案獲Silicon Graphics採用 (2003.05.08) 明導國際(Mentor Graphics)近日指出,Silicon Graphics已決定與Mentor合作,成為Mentor最新高效能驗證解決方案套件的第一位客戶。除了Mentor的VStation模擬系統外,這套驗證解決方案還提供良好的顧問諮詢服務,包括模擬技術的豐富實務經驗,能協助廠商降低模擬領域的進入障礙,提供低風險而低成本的解決方案以及容易採用的方法 |
|
智原選擇Seamless做為軟硬體協同驗證工具 (2003.04.30) 明導國際 (Mentor Graphics) 29日宣佈,智原科技(Faraday Technology)已決定採用Seamless做為它的協同驗證環境,用來驗證矽智財元件庫 (IP library) 中的數位訊號處理器 (DSP) 和微控制器核心;此外,智原還將為客戶提供它的第一套Seamless處理器支援套件 (Processor Support Package),用來模擬FD216 16位元數位訊號處理器核心 |
|
明導與智森、聯電攜手合作 (2003.04.10) 電子設計硬、軟體供應商明導國際(Mentor Graphics)8日宣佈,該公司將與智森科技、聯華電子,三方合作針對聯電0.18微米射頻(RF)與混合訊號(Mixed Mode)製程技術領先推出一套完整的設計套件 (Foundry Design Kit) |
|
Mentor Graphics加強Calibre RET (2003.03.06) 明導國際 (Mentor Graphics) 日前宣佈,該公司已大幅加強CalibreO系列的解析度強化技術(RET)工具,確保Calibre解析度強化技術的建模精準度 (modeling accuracy) 有效滿足未來三個技術節點需求 |
|
ATI選擇Mentor整合式驗證工具 (2003.03.05) 明導國際(Mentor Graphics)日前指出,該公司已和ATI達成為期多年的協議,ATI將利用Mentor整合式套裝工具來驗證他們的高效能繪圖卡和數位媒體晶片。ATI將使用Mentor Graphics VStation 15M和30M模擬系統、CalibreR DRC、LVS和RV實體驗證產品、以及FastScan、DFTAdvisor和BSDArchitect可測試設計工具 |
|
Mentor Graphics Calibre DRC 支援聯電90奈米製程 (2003.03.05) 明導國際 (Mentor Graphics) 於2月19日宣佈,聯電已開始提供能夠完整支援90奈米製程的CalibreR DRC (設計規則檢查) 規則檔案,它們可充份發揮Calibre最先進功能;自從1998年開始,Calibre就是聯電的實體驗證標準 |
|
科雅(Goya)採用Mentor可測試設計工具 (2002.12.23) Mentor Graphics於12月18日宣佈,科雅科技(Goyatek Technology)已採用它的可測試設計(DFT)工具,做為科雅可測試設計服務流程標準。Mentor的MBISTArchitect記憶體內建自我測試工具和BSD Architect邊界掃描自動化工具都是技術領先產品,可協助科雅持續加強他們的可測試設計能力,這也是科雅選擇它們的主要原因 |
|
Mentor Graphics與創惟技術合作 (2002.11.29) Mentor Graphics於11月25日宣佈與創惟科技(Genesys Logic)技術合作,為USB 2.0相容應用提供一套整合式實體層和控制器解決方案。這項合作將為Mentor客戶帶來一套通過實際成品驗證(silicon proven)的解決方案,包括裝置至主機的高速連線、裝置與裝置通訊的On-The-Go(OTG)支援和完全整合的實體層功能 |