相關物件共 1 筆
|
 |
聯電、DNP將為0.10微米光罩制定適當規格 (2000.12.19)
聯電今宣佈與大日本印刷株式會社(DNP)簽訂一項為期數年的協定，聯電將獲得DNP保障提供先進的光罩服務。此外，雙方將共同為0.10微米光罩制定適當之規格。
聯電表示，根據該協議，DNP將集中提供0.15/0.13微米製程世代的高階光罩予聯電，並強調採用先進且高品質的光學微距校正 (Optical Proximity Correction, OPC)相位移光罩(Phased Shift Mask, PSM) |
|
|
