聯電今宣佈與大日本印刷株式會社(DNP)簽訂一項為期數年的協定，聯電將獲得DNP保障提供先進的光罩服務。此外，雙方將共同為0.10微米光罩制定適當之規格。

聯電表示，根據該協議，DNP將集中提供0.15/0.13微米製程世代的高階光罩予聯電，並強調採用先進且高品質的光學微距校正 (Optical Proximity Correction, OPC)相位移光罩(Phased Shift Mask, PSM)。至於0.10微米技術的合作開發，將由2家公司工程師組成技術研究團隊並制定此項高階製程的光罩規格，讓聯電客戶將來廣泛採用。