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Low-K製程開啟晶片生產新紀元 (2004.02.16)
據中央社報導，台積電於今年宣布邁入「低介電常數」（Low-K）製程新紀元，使得許多新的先進產品得以運用低介電常數薄膜當作隔離材料，藉由低介電材質提高速率，並且以更低的線路干擾減少耗電，增進效能 |
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台灣應用材料使用Accenture"員工線上資訊服務"成功上線 (2001.02.07)
Accenture (原安盛諮詢) 今天宣佈，該公司為台灣應用材料公司所建置之企業入口網站第一階段的員工入口網站 (Employee Portal) [即員工線上資訊服務 (Employee On-Line)] 已於日前成功上線 |
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台灣應用材料林口辦公室開幕 (2000.05.25)
台灣應用材料公司為協助南亞二廠進行廠能的擴充，特別於林口南亞二廠附近成立一新的服務據點，並成立一支技術服務團隊，全力支援南亞二廠進行量產。
南亞二廠位於林口華亞工業園區，今年二月成立試產線，並計畫於今年下半年進入量產 |
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