瀏覽人次：【8512】
| 開始時間﹕ |
六月六日(二) 18:30 |
結束時間﹕ |
六月十五日(四) 21:30 |
| 主辦單位﹕ |
經濟部工業局 |
| 活動地點﹕ |
交通大學(光復校區)工程四館 |
| 聯 絡 人 ﹕ |
陳小姐 |
聯絡電話﹕ |
03-5731744~5 |
| 報名網頁﹕ |
|
| 相關網址﹕ |
|
以光學微影技術為主,含光學基礎,微影系統介紹,光阻化學原理與製程運用,以及深次微米微影製程中廣泛運用之解析度增強技術,如偏軸照明,相轉移光罩,光學鄰近修正技術等。 課程大綱： 1. Optics Fundamentals for Microlithography 2. Microlithography Exposure systems 3. Chemistry of Resist and Process Application 4. Resolution Enhancement Technology 5. Next Generation Lithography 上課時間:每週二及每週四 18：30～21：30
|
