| 先進微影技術與應用 |
| 2006年05月30日 星期二 | 【科技日報報導】 |
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以光學微影技術為主,含光學基礎,微影系統介紹,光阻化學原理與製程運用,以及深次微米微影製程中廣泛運用之解析度增強技術,如偏軸照明,相轉移光罩,光學鄰近修正技術等。
課程大綱： 1. Optics Fundamentals for Microlithography 2. Microlithography Exposure systems 3. Chemistry of Resist and Process Application 4. Resolution Enhancement Technology 5. Next Generation Lithography 上課時間:每週二及每週四 18：30～21：30 |
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