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SEZ針對高階封裝製程推出新款晶圓蝕刻設備 (2003.12.15) 半導體設備廠商SEZ Group宣佈擴增其基板蝕刻工具的陣容,以滿足客戶對於更薄、更高效能IC封裝的需求所設計。新款Galileo工具命名為GL-210,運用SEZ在單晶圓系統方面成熟的旋轉處理技術,提供優異的晶圓研磨、表面處理、以及減壓(stress relief)處理,支援兩個主要新領域─後端的組裝與封裝以及前端的晶圓製造 |
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FSI乾式晶圓清洗系統獲日本大廠採用 (2003.12.15) 全球性半導體製程設備業者FSI日前宣布,該公司配備AspectClean技術的多反應室 ANTARES CX 先進清潔系統已獲一家日本IC製造業者採用;該系統將被應用在130奈米及以下前段與後段的清洗製程上,進行平面與元件結構上的微污染顆粒清除程序 |
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景氣復甦 半導體設備業盼到春天 (2003.12.15) 隨著整體景氣復甦,長期低潮的半導體設備產業也終於等到春天;市場分析師指出,半導體需求攀升帶動業者提高資本支出,部分業者也開始因規劃擴產而下單,事實上部份設備訂單甚至已排到2004年第三季,其中以先進微影設備尤為明顯 |
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環球儀器推出高速Lightning貼裝頭 (2003.12.11) 環球儀器(Universal Instruments)日前推出高速Lightning貼裝頭,進一步擴展其Genesis和 AdVantis平臺系統的性能。新貼裝頭具有徑向陣列分佈的30個模組化獨立受控軸。此種配置能提升生產力,將Genesis和AdVantis平臺的貼裝速度分別提升至高達54,000 cph和30,000 cph |
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「NIDays」研討會登場 虛擬儀控新產品、新技術亮相 (2003.12.10) 全球量測自動化大廠National Instruments的年度壓軸--『NIDays』研討會活動,台灣部分於12月9日登場。NI台灣分公司總經理季松平表示,此全球性系列活動之展開,主要目標是希望吸引NI產品原有之使用者,分享最新技術之資訊,並參與一些同好或專家們的交流互動 |
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「NIDays」研討會12月盛大登場
虛擬儀控新產品、新技術亮相 (2003.12.05) NI台灣分公司總經理季松平表示,此全球性系列活動之展開,主要目標是希望吸引NI產品原有之使用者,分享最新技術之資訊,並參與一些同好或專家們的交流互動。 |
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日本半導體設備訂單連續第五個月成長 (2003.11.30) 路透社報導,據日本半導體設備協會(SEAJ)公佈日本10月半導體設備訂單數據,較2002年同期大幅成長108.2%,這是半導體產業從2001和2002年以來最嚴重的衰退後,逐步邁向復甦的最新跡象 |
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10月北美半導體設備訂單成長12% (2003.11.20) 根據國際半導體設備暨材料協會(SEMI)公佈的最新統計資料,10月北美晶片設備訂單較上月出現成長,顯見半導體設備市場已開始復甦;SEMI表示,10月北美晶片設備全球訂單三個月平均值為8.711億美元,較9月修正值7.788億美元增加了12%,亦高於2002年10月時的7.75億美元 |
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安捷倫第四季營收表現亮眼 (2003.11.20) 安捷倫科技日前公佈截至10月31日為止的2003年第四季營收報告,總計訂單金額達17億3千萬美元,營收亦達16億8千萬美元。該季GAAP淨收益為1千3百萬美元或每股0.03美元。相較之下,去年同期淨虧損為2億3千6百萬美元或每股虧損0.51美元 |
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KLA-Tencor與Carl Zeiss SMT攜手 (2003.11.18) KLA-Tenco與Carl Zeiss SMT旗下的Carl Zeiss Microelectronic Systems公司日前宣佈策略結盟,將協助半導體產業針對90奈米及其以下的環境降低新一代光罩的成本並縮短產品上市時程。光罩製造商與晶片製造商將能迅速辨識、搜尋、以及解決各種缺陷問題,加快光罩研發的速度,並在整個生產過程中改進品管的效率 |
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KLA-Tencor與Carl Zeiss SMT 合作開發光罩量測技術 (2003.11.17) KLA-Tencor與Carl Zeiss SMT 旗下的Carl Zeiss Microelectronic Systems日前宣佈策略結盟,將協助半導體產業針對90奈米及其以下的環境降低光罩成本並縮短產品上市時程;雙方的合作將為顧客提供最完善且更具經濟效益的解決方案,讓顧客能偵測、檢驗、以及處理各種先進光罩上的缺陷 |
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9月半導體設備銷售較8月成長60% (2003.11.15) 日本半導體協會(SEAJ)引述國際半導體設備暨材料協會(SEMI)公佈之最新市場調查報告表示,全球9月晶片設備銷售較2002年同期減少1.2%,達23.1億日元;但比較8月則是大幅增長,此一情況代表半導體製造商的資本支出正在逐漸復甦 |
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應材第四季財報亮眼 公司前景樂觀 (2003.11.15) 半導體設備大廠美商應用材料(Applied Materials)公佈最新一季財報,亮眼的成績顯示該公司未來前景樂觀。應材預期2004年度第一季(2003年11月~2004年1月)營收成長幅度將達5~8%,每股盈餘將介於0.06~0.08美元間,訂單則可望大幅成長20% |
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半導體設備市場 相同市調二樣情 (2003.11.11) 今年景氣成長緩慢,對於長久在低迷環境下經營的科技廠商來說,努力擺脫不景氣,直接躍入大幅成長的市場業績,才是目前的目標,因此今年的情況是,只要有一點點的好現象,市場訊息就一面倒向樂觀的那頭 |
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12吋廠計畫大幅啟動 半導體設備商摩拳擦掌 (2003.11.10) 據經濟日報報導,亞洲12吋晶圓廠投資計畫在半導體景氣復甦趨勢下大幅啟動,台灣、日本與大陸成為2004年資本支出最熱絡的地區,包括台灣五大晶圓廠、日本NEC、中國大陸中芯等,均將於明年擴大或新增12吋廠投資,估計總金額超過100億美元,成為半導體設備廠商爭相掌握的龐大商機 |
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台灣應材新組織團隊正式亮相 (2003.11.08) 據工商時報報導,半導體設備大廠美商廠應用材料組織整編後的新經營團隊正式亮相,原任總經理杜家慶於卸任轉往新成立的應材全球服務事業部(AGS)擔任亞洲區主管,而目前台灣應材由多位副總經理當家,包括負責台積電客戶的副總經理鄒若齊、所有台積電以外客戶的副總經理余定陸、及企業營運副總經理劉永生 |
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大廠增加資本支出 設備商接單旺 (2003.11.06) 據設備業界消息指出,南韓三星電子2003年第四季開出的設備採購單總量驚人,佔2004年第一季多家國際設備業者的大半製造產能,而台積電亦計畫於2004年大幅增加設備資本支出,該公司第2座12吋廠設備採購單也於本季起陸續下單,預計2004年第2季開始裝機 |
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SEZ DV-38F系統獲台灣晶圓代工廠商採用 (2003.11.06) 半導體產業單晶圓洗淨技術業者SEZ Group日前宣佈該公司最新發表的DV-38F系統已獲得台灣某晶圓代工廠商的採用。DV-38F單晶圓溼式洗淨旋轉處理工具,是第一套運用SEZ創新Da Vinci平台的產品─一套能滿足90奈米及其以下設計規格的新一代元件之生產需求,提供穩定的處理效能與高產量的模組化多重反應爐架構 |
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STS深蝕刻設備獲精材科技採用 (2003.11.05) 矽晶深蝕刻製程設備業者Surface Technology Systems(STS)宣佈,該公司已取得台灣封裝業者精材科技訂單;精材科技表示,該公司為了爭取需求迅速增加的光學感測器市場,將配合現有的STS蝕刻機,安裝 STS 進階矽晶蝕刻(ASE)系統 |
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致茂電子展推出四大主題 營造客戶與製造商雙贏目標 (2003.11.05) 今年十月台北國際電子展又熱鬧登場,稍有別於往年,今年參展的電子量測儀器相關廠商明顯的增多,似乎可以反映出國內電子產業,在為未來蓄積更大的產品開發能量。繼去年之後 |