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走出一條IC設計的坦途 (2011.09.27)
半導體產業的源頭，就從IC設計開始。而隨著技術的進展，半導體製程早已悄悄從0.18微米、0.13微米，悄悄邁入65奈米、45奈米，甚至更先進製程的世代。而IC設計產業所關注的重心，也已經逐漸從早期微米時代的晶片尺寸問題，轉移至時間與速度等議題上 |
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先進製程的功耗與雜訊成為IC設計重大挑戰 (2011.05.11)
自從半導體製程走向65奈米之後，IC設計業所關注焦點已經從晶片大小、速度等問題，轉移到IC晶片的耗電量上。特別是在半導體製程跨入45奈米領域之後，各晶片模組之間的距離大幅縮短 |
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同時解決功耗與雜訊問題 才是好的設計工具 (2011.04.07)
IC設計產業的所關注的重心，已經逐漸從早期微米時代的晶片尺寸轉移至時間速度議題。到了65奈米製程階段，功耗問題則成為首要課題，且其問題與挑戰愈來愈嚴峻。而進入45奈米世代之後，雜訊問題也接踵而至，其影響不僅是在晶片設計層面，連封裝製程與電路板設計都可以嗅出問題的關鍵程度 |
