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CTIMES / 海力士半導體
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USB2.0——让计算机与接口设备畅通无阻

USB2.0是一种目前在PC及接口设备被广为应用的通用串行总线标准,摆脱了过去局限于PC的相关应用领域,而更深入地应用在数字电子消费产品当中。
提高竞争力 海力士将再关闭一座8吋厂 (2008.10.06)
海力士(Hynix)半导体宣布,将提前关闭生产效率低于12吋晶圆的8吋晶圆厂。而在工厂关闭后,DRAM和NAND闪存的主要生产工作将由12吋晶圆厂负责,此举将有效稳定财务状况并提高收益
海力士打造清州厂为全球第一大NAND内存工厂 (2008.09.04)
海力士半导体位于韩国清州市、支持300mm(12吋)晶圆的新制造生产线M11落成,海力士并邀请当地政府官员等举行完工典礼。 据了解,M11将采用40nm制程,用于生产16Gbit及32Gbit等高密度NAND闪存
海力士获Grandis授权 将共同开发STT-RAM技术 (2008.04.10)
南韩海力士半导体(Hynix Semiconductor)宣布,该公司已经与新一代内存STT-RAM(Spin-Transfer Torque RAM)的技术开发商Grandis,签订了STT-RAM的技术授权及共同开发协议。根据协议内容,海力士将从Grandis获得STT-RAM技术授权,未来两公司的研究人员也将在产品开发领域进行合作
海力士成功开发24层NAND Flash堆栈封装技术 (2007.09.13)
海力士半导体(Hynix Semiconductor)成功开发出24层堆栈、每层厚度为25μm的NAND型闪存,总厚度为1.4mm的MCP多芯片封装。这是在目前的MCP产品之中,堆栈层数最多的一次。 海力士是于2007年5月开发出了层迭20层芯片的MCP
2010年两岸DRAM产量将超越南韩 (2007.05.31)
台湾和中国的DRAM总产量,将在2010年之前超过南韩。根据iSuppli预测,台湾和中国的DRAM厂陆续扩产,相较之下南韩仅有三星电子(Samsung Electronics)和海力士半导体(Hynix Semiconductor)为主要DRAM生产商,且该两厂商未来也会将生产的重心移向NAND闪存
海力士获得英特尔DDR3 SDRAM产品认证 (2007.05.09)
南韩海力士半导体(Hynix Semiconductor)对外表示,该公司已经从美国英特尔(Intel)获得了DDR3同步动态随机内存(SDRAM)的产品认证。 海力士表示,此次获得的是80nm制程技术的1Gbit DDR3 SDRAM,以及该芯片应用于个人计算机(PC)大容量储存模块的认证

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