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CTIMES / 超紫外線
科技
典故		 只有互助合作才能双赢——从USB2.0沿革谈起

USB的沿革历史充满曲折，其中各大厂商从本位主义的相互对抗，到尝尽深刻教训后的Wintel合作，能否给予后进有意「彼可取而代之」者一些深思与反省？
ASML：下半年景气将回复 (2002.07.22)
根据Bloomberg指出，荷兰微影设备供货商ASML表示，今年下半年产业景气将比上半年较佳，而且ASML目前仍未出货的订单数量，比起去年年底时要多35％，因此该公司认为半导体景气应该已出现复苏的讯号
IBM表态支持EUV光蚀刻技术 (2001.02.26)
据消息指出，IBM已经表态支持超紫外线(extreme ultraviolet，简称EUV)光蚀刻技术，此举意味该技术将成为半导体业界新一代的芯片制程标准。据了解，IBM已经同意加入超紫外线有限公司(EUV LLC)，此技术将可让芯片设计商生产尺寸更小、执行速度更快的处理器

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