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Toppan Photomask与IBM签署EUV光罩研发协议 推进2奈米技术 (2024.02.14)
半导体光罩供应商Toppan Photomask宣布,已与IBM就使用极紫外(EUV)光刻技术的2奈米(nm)节点逻辑半导体光罩的联合研发达成协议。该协议尚包含开发用於下一世代半导体的高NA EUV光罩
美国半导体设备材料产业出现衰落迹象 (2003.09.30)
美国半导体设备及材料产业在1980年代初期至中期没落后,于1990年代藉成立International Sematech产业团体达到重振旗鼓之效,但短短2~3年的时间内,美国仍在重要的微影、电子束设备等市场失去主导地位,不仅美国硕果仅存的微影设备商Silicon Valley Group在2001年由荷商ASML Holding以16亿美元收购,美国其他设备及材料技术近来亦有落后的迹象
光罩工业及其制程技术之探讨 (2001.11.05)
光罩工业的变动一直与半导体的发展息息相关,在晶圆制程不断缩短与光罩工业间相互流血竞争的情形下,光罩工业该如何生存?
黄光技术力求突破 (2001.09.01)
黄光,即是为避免产品曝光,产品在黄光下进行一连串的半导体微影制程动作,目前已有的微影技术为可见光、近紫外光、中紫外光、深紫外光、真空紫外光、极短紫外光
光罩产业的现况与发展趋势 (2000.01.01)
参考资料:


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2 Bourns全新薄型高爬电距离隔离变压器适用於闸极驱动和高压电池管理系统
3 Basler全新小型高速线扫描相机适合主流应用
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