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3D IC设计与EDA技术研讨会
 


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開始時間﹕ 八月二十日(四) 13:30 結束時間﹕ 八月二十日(四) 16:30
主办单位﹕ 工研院晶片科技中心
活動地點﹕ 工业技术研究院系统芯片中心010会议室
联 络 人 ﹕ 姚小姐 联络电话﹕ (03)591-5947
報名網頁﹕
相关网址﹕ http://college.itri.org.tw/SeminarView1.aspx?no=62090006&msgno=304842

我国半导体产业发展多年的垂直分工产业生态下,产业界多以低成本、低售价为竞争策略;但随着欧美大厂进入印度以及中国,并扶植当地的半导体,低成本已非台湾的竞争优势;以色列以及欧洲新兴地区投入IC设计业、韩国中国等新进业者加入fabless与晶圆代工市场,以自有国内市场、加上国家资源与优惠政策进而发展为全面性的半导体产业,已对我国业者形成威胁。

我国IC设计业虽产值比重高,但产品同构型过高,导致杀价竞争,使得厂商获利降低;然IC设计业之资本支出主要为EDA工具及量测环境,但因量测设备日益昂贵,并需花费人力维护,导致我国IC设计业者在2007年的资本支出仅占总营收的3.3%,新技术及创意产品的开发处境艰困。

为建立衔接3D IC设计与封装之实用EDA环境,必须与国际先进EDA厂商与学术机构共同合作开发;有鉴于此,工研院特邀请国际EDA大厂的讲师,以探索应用现有2D IC设计流程转移至3D IC设计流程之需求与应用方向。

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