帳號:
密碼:
最新動態
 
產業快訊
CTIMES/SmartAuto / 產品 /
KLA-Tencor新版黃光電腦模擬軟體進一步克服EUV微影
 

【CTIMES/SmartAuto 李旻潔報導】   2008年10月14日 星期二

瀏覽人次:【2612】

KLA-Tencor公司推出最新版的黃光電腦模擬軟體 PROLITHTM 12。此新版本將協助晶片製造商及研發機構的研究人員能以具成本效益的方式,探索與超紫外光(EUV)微影相關的各種光罩設計、黃光製程材料及製程的可行性。

縮小晶片上的最小線寬尺寸,能讓晶片廠生產出更快的微處理器,但是在成像過程中,用於曝光光罩的光波波長,會限制所能形成的最小線寬尺寸。在過去幾代的裝置上,半導體產業一直使用深紫外光(DUV)光波,而波長更短的下個世代,將會是EUV的天下。專家預測,EUV微影技術,有可能創造出比現今最強大的晶片還要快一百倍的元件。

KLA-Tencor製程控制資訊部副總裁暨總經理Ed Charrier表示,在業界的技術藍圖中,儘管EUV微影被列為幾年內將用於半導體裝置生產的可能技術,但仍存在若干技術障礙需要被克服。此新版黃光電腦模擬軟體PROLITH 12,能讓研究人員精準地模擬出EUV光波和光罩、成像材料及製程之間的相互作用,以預測最後形成在晶圓上的圖案。透過PROLITH 12的協助,研究人員將無需使用試驗材料或原型製程機台,也不必經歷昂貴又漫長的程序,沖印數百個測試晶圓。

由於目前所知的光罩材料對EUV都是透明的,所以必須使用來自不透明光罩的反射光來刻畫晶圓。這個重大變化,導致印在晶圓上的圖案不對稱。而PROLITH 12就是專為解決此類EUV系統特有的挑戰而設計的軟體。

關鍵字: 微影  晶圓  光罩  晶片  模擬軟體  KLA  Ed Charrier  應用軟體類 
相關產品
大聯大詮鼎推出基於Qualcomm晶片的無線藍牙耳機方案
KLA發布全新汽車產品組合 提高晶片良率及可靠性
艾訊運動控制平台 為晶圓生產設備提升良率與穩定成效
KLA推出兩款量測與檢測系統 提升3D NAND與先進製程良率
KLA推出AI解決方案的產品組合 強化先進封裝
  相關新聞
» 安立知獲得GCF認證 支援LTE和5G下一代eCall測試用例
» 數智創新大賽助力產學接軌 鼎新培育未來AI智客
» 資策會與DEKRA打造數位鑰匙信任生態系 開創智慧移動軟體安全商機
» 是德科技推動Pegatron 5G最佳化Open RAN功耗效率
» 是德科技PathWave先進電源應用套件 加速電池測試和設計流程
  相關文章
» 最佳化大量低複雜度PCB測試的生產效率策略
» 確保裝置互通性 RedCap全面測試驗證勢在必行
» ESG趨勢展望:引領企業邁向綠色未來
» 高階晶片異常點無所遁形 C-AFM一針見內鬼
» 高速傳輸需求飆升 PCIe訊號測試不妥協

刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8B8BGVCXCSTACUKL
地址:台北數位產業園區(digiBlock Taipei) 103台北市大同區承德路三段287-2號A棟204室
電話 (02)2585-5526 #0 轉接至總機 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw