专为半导体产业客户提供环保科技解决方案的德国达思公司（DAS Environmental Expert）近日推出最新的燃烧/水洗（burn/wet）废气处理系统STYRAX。该款系统旨在处理CVD化学气相沉积等制程废气中所含的危险物质。根据达思废气处理事业部总监Guy Davies博士指出：「我们特别针对半导体产业CVD制程等各种常见应用设计出STYRAX。藉由该款工具，我们为客户提供了具成本效益的废气处理系统，以因应其薄膜制程之各种需求。」

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新款系统采用成熟可靠的技术，并针对CVD制程要求而调整。此制程以及半导体产业的其他应用，会在气相化学反应过程中在物体表面形成一层薄膜。芯片制程中的CVD会沉积出各种不同成分的薄膜，包括氮化硅、氧化硅、以及多晶硅，而这类制程中采用的各种气体则具有毒性、高度可燃、高爆性、或影响气候等特性。

达思台湾总经理沈森永表示：「STYRAX可更有效率地满足台湾客户的需求，同时还能因应CVD与蚀刻制程的废气处理作业，使其功能更臻完备。」环保专家达思持续针对严苛的CVD制程之废气减排要求开发系统功能，目前锁定的应用范畴更进一步扩展至内存制造领域。由于STYRAX机台占用空间极小，因此能安装在晶圆厂的地下室或紧靠在设备旁边。此外，针对要求高正常运作时间的客户，更可大幅拉长实施预防性维护保养周期。

STYRAX所采用的燃烧/水洗技术多年来在GIANT与UPTIMUM系统中运用成功。由于各种废气是从上到下燃烧，而运用水幕喷洒可防止侵蚀及反应室出现微粒堆积现象。在反应室旁的洗涤区，化学反应物与悬浮微粒会在此处被吸附与过滤，之后，经过冷却的洁净空气便可从屋顶排出至大气中。

STYRAX可正常运作时间极长，具有减排效率，维护保养的作业也简单。由于系统保养的间隔周期极长，使客户可降低各方面营运成本。另外它还能轻易连结到监视网路，针对要求接近100%正常运作时间的应用，达思也研发出加强版STYRAXDUO，其内含两个系统。在必要时－例如其中一组系统进行保养维护时，第二组系统便能立即接手所有废气处理作业。 （编辑部陈复霞整理）