陶氏电子材料（Dow Electronic Materials）近日推出了OPTIVISIONTM 4540化学机械研磨垫，该产品的设计目标是在研磨垫的使用寿命内实现低缺陷率和低拥有成本。这款新研磨垫使用了独特的聚合物化学组成和细孔结构，以达到使铜阻挡层研磨的缺陷率降至最低，并提供更高的介电层去除率。OPTIVISION 4540研磨垫拥有双孔结构以精确控制研磨，并且在研磨垫使用寿命中提供一致的研磨垫表面。

OPTIVISION 4540研磨垫可用于使用传统软垫的多种应用。尤其在铜阻挡层研磨方面，与POLITEX研磨垫产品相比，它在颤动和微划痕缺陷率方面取得了一个数量级的进步，从而实现了更高的生产良率。与 POLITEX研磨垫相比，OPTIVISION 4540研磨垫的四乙氧基硅烷（TEOS）去除率提高了40%，从而实现了更高的产量和更低的拥有成本。

这款研磨垫可与陶氏的ACuPLANETM 5100系列研磨液一起使用，以实现更高性能。OPTIVISION 4540研磨垫拥有多种尺寸和配置，包括最新的窗口选项，可用于目前的和先进的技术节点和平台。陶氏目前已进行OPTIVISION 4540研磨垫的试样提供，该产品将于今年第四季上市。