網站SBN指出，半導體設備供應商大廠美商應用材料（Applied Materials）日前宣佈，該公司最新RETicleSEM系統，將運用在65奈米光罩及相關應用產品方面；該系統乃是應用材料進軍光罩量測（mask metrology）市場的第一步。

該報導指出，應材之RETicleSEM系統可支援各種光罩應用產品，且同時量測光罩及晶圓，協助晶片供應商得以交互參照其在晶圓表面上所建立的圖案，藉以確保產出品質。該公司製程診斷與控制產品事業群（Process Diagnostics and Control Product business group）副總裁暨總經理Gilad Almogy表示，該款系統乃是應用材料首度進軍光罩量測（mask metrology）市場的產品。

據市調機構Gartner Dataquest調查報告指出，全球光罩量測系統市場規模2003年將達1500萬美元，預估在2005年以前可成長到4400萬美元市場規模；應用材料欲搶食市場大餅的企圖不言可喻。