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TI:大電流小體積是MOSFET發展終極趨勢
 

【CTIMES/SmartAuto 王岫晨 報導】   2010年01月13日 星期三

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德州儀器(TI)針對高電流DC/DC應用,推出業界第一個透過封裝頂部散熱的標準尺寸功率 MOSFET 產品系列。DualCool NexFET功率MOSFET有助於縮小終端設備的尺寸,同時還可將通過MOSFET的電流提高50%。目前基礎設備市場對處理功率,客戶要求以更小的封裝實現具有更高電流的DC/DC電源。DualCool NexFET功率MOSFET在不改變尺寸的同時能處理更多電流,可充分滿足客戶需求。

TI亞洲市場開發電源產品協理羅偉指出,大電流與小體積將是MOSFET發展的終極趨勢。
TI亞洲市場開發電源產品協理羅偉指出,大電流與小體積將是MOSFET發展的終極趨勢。

TI亞洲市場開發電源產品協理羅偉指出,TI的MOSFET技術,來自於Ciclon。Ciclon是2004年在美國賓州成立的私人公司,前身是貝爾實驗室的技術,專精於MOSFET技術,並於2009年由TI完全併購。TI在併購Ciclon之後,該部門將專注發展高效、節能的MOSFET。羅偉強調說,目前TI已擁有PWM Controller以及Gate Driver等技術,唯獨就缺少MOSFET這一塊技術。而併購了Ciclon的最大意義,在於TI終於可以完整提供在Power領域的所有相關解決方案。在購入MOSFET的相關技術後,未來TI也將依據客戶需求,整合出不同功能的產品,以滿足市場所需。

羅偉也解釋,第一代的MOSFET又叫做Planer,裸晶通常較大,而MOSFET最重要的電阻RDS(ON)在開關打開時,電阻值越低越好,然而在降低內阻的同時,充電的電容又不能太大,否則太過耗電。也因此會出現電阻小、電容又要小的設計上矛盾。到了第二代的MOSFET,也就是目前多數廠商所使用的Trench(溝槽式),其電阻小,但電容卻相對變大了,現在TI的NexFET技術就在克服這樣的問題,也就是能同時提供更小的電阻與電容,如此在電源轉換的充電與放電之間,電源的損耗就能大幅減少,進而提高效率。這也是目前TI與競爭對手間存在的最大技術差異。一般來說,要降低電阻是比較容易的,但要降低電容值便有一定的技術門檻存在,這部分在TI併購了Ciclon之後,便具有了業界的領先優勢。

羅偉最後指出,DualCool是封裝技術的改進,裸晶的部分沒有多大差異,而是透過封裝的改變,來滿足客戶對於電流提升以及功率的要求。這是TI跨入MOSFET領域的第一個產品,未來將朝向更小的封裝體積發展,畢竟要讓晶片體積更小,卻同時要承載更大的電流量,在設計上將是很大的挑戰,同時還有散熱方面的問題需要克服,但這卻是未來發展的趨勢,也是所有設計商必須要走的路。而未來TI也將致力於提供更穩定的產品,供客戶使用於其系統之中。

關鍵字: MOSFET  TI(德州儀器, 德儀電源元件 
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