账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
日月光取得K&S OP2防铜氧化制程技术授权
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2001年03月08日 星期四

浏览人次:【3762】

封装测试大厂日月光半导体昨日宣布获得库利索法(K&S,Kulicke & Soffa)正在申请专利的OP2防铜氧化制程技术授权,成为国内第一家提供铜制程晶圆后段封装服务的业者。对该公司争取铜制程高阶芯片封装代工有很大的帮助。

日月光半导体研发副总经理李俊哲表示,过去业界一直努力利用铜的高传导特性发展相关应用,但却受制在铜易氧化的缺点,使得目前有关铜制程的应用,仍停留在将铝或其它金属的防氧化材质覆盖在打线基础上,这项加工手续不但延长整体制造时程,每个晶圆的处理手续也增加了近一百美元的成本。

李俊哲也表示,日月光已对OP2封装技术进行过稳定度测试,未来会将这项技术整合至日月光高雄厂的铜制程晶圆封装生产在线,预计可以节省进行引线接合时清除氧化物的额外成本,而日月光也将利用这项技术开发高阶铜制闸球数组封装(BGA)产品线,应用在高阶与细间距的高效能芯片上。

關鍵字: 封装测试  库利索法  OP2防铜氧化制程技术  日月光半導體 
相关新闻
日月光半导体与文藻外大携手培育高科技跨域人才
国研院晶圆级气体感测器点测系统加速提升高效
矽格采用Nutanix企业云平台全面提升企业营运效能
低成本解决方案 领航台湾IC封装新局
Gartner:2012年全球封测市场仅成长2.1%
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 先进封测技术带动新一代半导体自动化设备
» 停产半导体器件授权供货管道
» 5G与AI驱动更先进的扇出级封装技术(一)
» COF封装手机客退失效解析
» 面对FO-WLP/PLP新制程技术的挑战与问题


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BT4FHQFSSTACUKG
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw