據Chinatimes報導，半導體次波長蝕刻技術供應商Numerical Technologies日前與聯華電子宣佈，雙方延續1999年與Numerical 的相移技術授權協議，聯電並將於第二季與美商智霖（Xilinx）等客戶，共同開發試產90奈米製程技術。台積電近期也將與低功率（low power）SRAM設計公司合作開發0.11微米與其他先進製程。

Numerical表示，與聯電的合作研究與促進100奈米以下的積體電路製程技術發展始於1999年，此項三年協議亦延續雙方2000年12月開始的授權合作關係。聯電副總經理李俊德表示，與 Numerical的合作克服生產次波長積體電路的挑戰，協助彼此雙贏，才會進一步延續雙方在90奈米及其以下的技術合作關係。

聯電90奈米製程技術預計在第二季試產，合作對象包括美商智霖等。聯電未來將持續評估及投資於下一代先進製程技術。台積電0.13微米製程量產時間較聯電快，而積極開發90奈米技術之前，台積電已與國內某SRAM設計公司共同開發0.11微米製程，年中之前可望有初步成果。

業界將0.11微米製程技術視為0.13微米的「進階」版本，而其接單價格依照業界慣例與0.13微米相同；就如同0.22微米之於0.25微米製程。過去台積電與聯電也曾在0.15與0.13間因製程技術開發早晚，形成台積電長於0.13、聯電多強調0.15微米的態勢。