据外电报导,在半导体产业进入奈米时代后,材料将成为产业发展的瓶颈之一;而根据全球绝缘层上覆矽技术(SOI)晶圆最大供应商Soitec表示,其所推出SOI新型矽材料可有效解决目前半导体材料的漏电问题,并能进一步降低整体晶片尺寸与体积。
Soitec总裁兼CEO Auberton-Herve表示,目前SOI技术已开始在世界广泛被使用,范围约占整个半导体材质30%左右,预计到2010年将占有50%左右的市场比重。目前市场中若包含IDM形式的半导体晶圆厂在内,Soitec在SOI市场所占比重约为80%。
Auberton-Herve强调,SOI材料可在现有半导体设备中使用,完全不需要更换,且在采用SOI材料后,漏电等技术难点可迎刃而解,虽然材料成本有所上升,但可缩减制程,故在整体成本方面可大幅度下降。目前在大陆市场使用过程中,SOI有效地降低总体成本。
目前在全球市场中采用SOI的业者包括超微、三星、摩托罗拉、飞利浦等,而IBM、东芝、SONY等也针对90~45奈米技术,考虑使用SOI技术。虽然Soitec在全球市场销售相对较多,但看好大陆前景,未来将大力拓展大陆市场。