Cambridge GaN Devices(CGD)今日宣布推出第二代的 ICeGaN 650 V氮化?? HEMT 系列产品,提供领先业界的耐用性、易於使用及最高效率等特色。H2 系列 ICeGaN HEMT 采用 CGD 的智慧闸极介面,几??消除一般 E 模式 GaN 的各种弱点,大幅加强过电压耐用性、提供更高的抗杂讯??值,以及提升 dV/dt 抑制和 ESD 保护效果。
新型 650 V H2 ICeGaN 电晶体与前代装置相同,是以类似矽 MOSFET 的方式驱动,无需使用效率不彰的复杂电路,而是采用市面上供应的工业闸极驱动器。
最後 H2 ICeGaN HEMT 的 QG 比矽制零件低 10 倍,QOSS 则低 5 倍,因此 H2 ICeGaN HEMT 能够在高切换频率情况下大幅减少切换损耗,有助於缩减尺寸及重量。这实现了领先同类产品的效率及效能,在 SMPS 应用中比业界最隹的矽 MOSFET 整整高出 2%。
...
...
| 另一名雇主 | 限られたニュース | 文章閱讀限制 | 出版品優惠 |
| 一般使用者 | 10/ごとに 30 日間 | 0/ごとに 30 日間 | 付费下载 |
| VIP会员 | 无限制 | 25/ごとに 30 日間 | 付费下载 |


