全球材料、應用技術及服務綜合供應商Dow Corning Electronics的矽晶片微影解決方案事業部今日宣佈正式開始供應Dow Corning XR-1541電子束光阻劑，此一產品是專為實現次世代、直寫微影製程技術開發所設計。這一新型先進的旋佈光阻劑產品系列是以電子束（electron beam）取代傳統光源產生微影圖案，可提供圖形定義小至6奈米的無光罩微影技術能力。

可用於各種高純度、半導體等級配方的XR-1541電子束光阻劑，是由甲基異丁基酮（methylisobutylketone；MIBK）帶性溶劑中的含氫矽酸鹽類（hydrogen silsesquioxane；HSQ）樹脂所構成。這些負光阻劑可在標準旋佈沉積塗佈設備上使用，在單一塗佈中形成30到180奈米等不同厚度的薄膜，而客製化的配方還可應客戶需求生產更薄或更厚的薄膜。此外，新型光阻劑還提供絕佳的蝕刻阻抗以及下降至3.3奈米的邊線定義，可在標準水基顯影劑中顯影。

直寫式電子束微影不需任何光罩即可製造非常小的奈米尺度結構。首先將光阻材料的薄膜應用於矽晶圓，接著，使用狹窄的電子束將光阻曝光使其在顯影劑中不易溶解，而未曝光區域則可被選擇性地移除以產生精細的圖案。

「目前，將微影技術延伸至32奈米節點製程應用上正面臨了技術上和經濟效益上的挑戰。」Dow Corning矽晶片微影解決方案全球行銷經理Jeff Bremmer表示，「我們創新的新型光阻劑提供研究機構一個經濟的方式，以可能的最高解析度直寫圖案，將可促進積體電路製造、光罩或奈米壓印模具的次世代微影製程開發。」 。

許多大學和研究機構已經採用以HSQ為基礎的電子束光阻劑直寫精細的圖案。「藉由XR1541電子束光阻劑在市場上供應，研究機構將更容易購買並取得這些關鍵矽基材料。」Bremmer指出。