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Qcept提供晶圆快速在线非光学可视性缺陷侦测
 

【CTIMES/SmartAuto 陳盈佑报导】   2008年06月13日 星期五

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Qcept的ChemetriQ 3000提供整片晶圆的快速在线非光学可视性缺陷(NVDs)侦测,包括了有机、无机、金属污染、制程导致的电荷、水渍或其他的非光学可视性缺陷。NVDs无法以光学检测系统探测,在尖端晶圆厂中,占了所有缺陷的30%。

ChemetriQ 3000透过非接触式且非破坏性的技术,检测晶圆表面功函数的变化量。这些变异因子显示出NVDs的所在,可自动转换成整片晶圆的影像并侦测位置档案,能安装至晶圆厂内既有的分析工具上,以进行分类分析。ChemetriQ 3000的敏锐度高达5E9 atoms/cm2(每平方公分上5E9 atoms或二十万个原子分之一),超越ITRS针对22奈米技术所规范的金属感染物标准。藉由ChemetriQ 3000,晶圆制造商可以更佳的制程监控提高良率,并透过更快的制程优化的方式,加速提升产出良率。

關鍵字: NVDs  Qcept  半导体制造与测试 
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