全球材料、应用技术及服务综合供货商Dow Corning Electronics的硅芯片微影解决方案事业部今日宣布正式开始供应Dow Corning XR-1541电子束光阻剂，此一产品是专为实现次世代、直写微影制程技术开发所设计。这一新型先进的旋布光阻剂产品系列是以电子束（electron beam）取代传统光源产生微影图案，可提供图形定义小至6奈米的无光罩微影技术能力。

可用于各种高纯度、半导体等级配方的XR-1541电子束光阻剂，是由甲基异丁基酮（methylisobutylketone；MIBK）带性溶剂中的含氢硅酸盐类（hydrogen silsesquioxane；HSQ）树脂所构成。这些负光阻剂可在标准旋布沉积涂布设备上使用，在单一涂布中形成30到180奈米等不同厚度的薄膜，而客制化的配方还可应客户需求生产更薄或更厚的薄膜。此外，新型光阻剂还提供绝佳的蚀刻阻抗以及下降至3.3奈米的边线定义，可在标准水基显影剂中显影。

直写式电子束微影不需任何光罩即可制造非常小的奈米尺度结构。首先将光阻材料的薄膜应用于硅晶圆，接着，使用狭窄的电子束将光阻曝光使其在显影剂中不易溶解，而未曝光区域则可被选择性地移除以产生精细的图案。

「目前，将微影技术延伸至32奈米节点制程应用上正面临了技术上和经济效益上的挑战。」Dow Corning硅芯片微影解决方案全球营销经理Jeff Bremmer表示，「我们创新的新型光阻剂提供研究机构一个经济的方式，以可能的最高分辨率直写图案，将可促进集成电路制造、光罩或奈米压印模具的次世代微影制程开发。」 。

许多大学和研究机构已经采用以HSQ为基础的电子束光阻剂直写精细的图案。「藉由XR1541电子束光阻剂在市场上供应，研究机构将更容易购买并取得这些关键硅基材料。」Bremmer指出。