相较于昔日步进重复奈米压印微影（NIL）的进一步开发与生产微缩化的需求，常被受限于较大面积上精准母模的可用性。晶圆接合暨微影技术设备商EV Group（EVG）推出次世代步进重复NIL系统EVG770 NT。 EVG770 NT可以为扩增实境（AR）波导管、晶圆级光学技术（WLO）及先进实验室晶片元件量产使用的大面积母模加工，促成复杂的微型与奈米图案结构的精准复制来进行大面积母模加工。

EVG 770 NT步进重复奈米压印微影系统为扩增实境波导管、晶圆级光学技术与先进生物医学晶片，促成微型与奈米结构的大面积母模加工。

借助EVG在NIL与步进重复母模累积数十年的经验，EVG770 NT的设计旨在成为一套让效能、生产力与制程控制性极大化的完全生产导向系统，并提供先进的叠层精准度与解析度，尺寸最高可以放大至300mm晶圆及第二代面板尺寸。因此，今后客户可以实现量产、具成本效益与高保真度的NIL图案成形。

WLO为推动NIL普及的主要市场之一，从改良智慧型手机的数位相机自动对焦，以及提升智慧型手机安全性的人脸辨识，到AR与虚拟实境（VR）头戴装置使用的3D模型与影像增强，已经为消费性行动电子产品应用带来全新体验。

步进重复NIL藉由电子束或其它技术完成单一晶片母模，并在基板上进行多次复制以打造全面积的主模板与母模，以符合成本效益的生产WLO与微流控元件使用的微结构。如此产出的步进重复母模，可以用来生产供接下来晶圆级与面板级制造使用的工作模具。

能在面积越来越大的基板上复制较大母模的能力，可以同时生产更多的产品，也可以在不用拼接的情况下，生产较大型个别产品。与钻石钻孔、雷射直写与电子束书写等传统母模加工制程相比，这种方法带来显著的良率与成本优势。由于传统母模加工制程的低产出量与高成本，导致更难以扩充到更大基板。结合步进重复制程可以促成效能最佳化的晶片使用，也能更有效地将这些高品质图案导入生产线。

EV Group企业技术总监Thomas Glinsner博士表示：「EV Group对于开发与完善我们的步进重复母模加工技术的投资已经超过十年，目的是将NIL制造的优势带到更广泛的市场与应用。这项努力的成果带来了EVG770 NT，它补足并且成功桥接自由度微光学或高保真度奈米图案成形，具成本效益的量产需求。借助这个突破性的步进重复解决方案，我们的客户现在能够打造自己的主模板，并将整个NIL制造流程导入企业内部，进而提供客户更高的弹性与更短的生产制造周转时间。 」

EVG在其总部内的NILPhotonics技术中心提供工具展示与新系统的步进重复母模加工服务，此技术中心是对客户与合作伙伴开放使用的创新育成中心，可协助缩短创新的光电元件与应用之产品上市时程。 EVG770 NT包含有助于制程开发与生产的多项功能，EVG770 NT现已出货给特定客户，而EVG目前也开放接受全新系统的订单。

产品功能

‧最大可以在300mm晶圆与第二代（370x470mm）面板等基板上，进行最大达80mm x 80mm的单一镜头/晶片模板的无拼接复制

‧250nm以内的对准精度与50nm以内的解析度

‧促成工作模具量产流程，避免昂贵的原始模具磨损

‧具更高能量的全新曝光光源设计，可大幅降低曝光时间

‧检测用显微镜与即时制程的相机讯号馈送，可随时随地验证与监控制程结果

‧非接触的空气承轴可以让尘粒污染降至最低

‧自动化基板装载与模具更换单元，具备五个模具的储存缓冲器

‧压印力量与脱膜力量的临场控制与特性分析

‧将软体升级至EVG最新的Computer Integrated Manufacturing（CIM）框架平台，其广泛用于EVG量产制程设备上