由欧盟第七期科研架构计划资助的企业学术联盟宣布一项三年期项目圆满结束，并发布了设计合成工具流程以及相关的亲微影（litho-friendly）单元库和评估工具。

SYNAPTIC研究项目由来自欧洲和巴西的8家产学机构组成，合作目标是研发以创新的规则化为中心的设计方法和电子设计自动化（EDA，Electronics Design Automation）工具，以降低技术节点升级和先进次波长微影（sub-wavelength lithography）技术对逻辑和物理实现效果的限制。

透过开发新的模式察觉型（pattern-aware）逻辑合成，SYNAPTIC项目为欧洲半导体工业解决了关键性问题，如降低系统变异、可制造性设计（DFM，Design for Manufacturing）和改进良率（单元、IP/微距和系统水平）、复杂的面积/性能比及系统级/架构预测和签核，目标是在先进的奈米技术时代继续遵循摩尔定律预测的技术节点升级。

SYNAPTIC项目产生的单元库、工具和设计方法可合成并实现多个基于一套缩小的匹配布局（layout pattern）同时保持相似的面积、功耗和时间性能的设计。这些研发成果证明，规则化对变异和可制造性的良性影响不会对其它指针造成不利影响。SYNAPTIC开发的良率指针和模型显示，因为大制程窗口，芯片良率可大幅提高，这将立即转化为成本效益，提高制造效率，降低光学邻近效应修正（OPC，Optical Proximity Correction）加工量，加快产品上市。 SYNAPTIC开发的设计流程稳定，设计结果一致，并可支持产业设计评估。

透过成功完成所有阶段性开发计划，在不同的设计开发实现阶段和创新的新一类设计合成及单元库自动生成工具中实现规则化概念，SYNAPTIC项目有助于欧洲半导体工业与全球整合组件制造商（IDMs，Integrated Device Manufacturers）以及远东代工厂同步发展，提高欧洲半导体和电子设计自动化企业的市场竞争力。

此外，SYNAPTIC在整个项目期间倾力宣传相关研发活动，提高了全球对欧洲学术界半导体研究的关注度。