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【CTIMES/SmartAuto 报导】   2010年05月27日 星期四

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飞思卡尔(Freescale)日前推出一款射频(RF)LDMOS功率晶体管,操作范围为1.8至600 MHz,同时针对会产生潜在破坏性阻抗失配(impedance mismatch)状况的应用(如二氧化碳雷射、电浆产生器和核磁共振造影(MRI)扫描仪),已进行优化,使其可用于这些应用。这款全新的MRFE6VP6300H场效晶体管(FET)是全球第一款50伏特LDMOS晶体管,提供满载输出功率300瓦连续波(CW)至电压驻波比(VSWR)为65:1的负载。

所有固态RF功率放大器,可在RF功率晶体管产生的最大功率全数送达天线时,产生最有效率的运作。在理想的条件下,这将产生1:1的VSWR值,所有生成的额定功率到达负载,通过传输线后全未反射回至放大器。VSWR在大多数应用中很少超过2.5:1,大多数RF功率晶体管(无论搭载技术为何),都可以处理5:1或10:1的VSWR值。

然而,RF功率功率放大器不论用来触发二氧化碳雷射以及电浆产生器,或是在MRI系统产生电磁场,都会遇到几乎所有产生的额定功率反射回至功率放大器的状况。这些极端的条件对于多数RF功率晶体管都是一项挑战。

飞思卡尔全新MRFE6VP6300H LDMOS FET主要设计用来满足这些应用,并可产生达300瓦的CW输出功率,最高VSWR可达65:1。市售50伏特LDMOS晶体管中仅本款有提供这种等级的性能。

MRFE6VP6300H可以使用在推拉式(push-pull)或单端组态设定,并可安装于紧密的气腔陶瓷NI780-4封装中。在130 MHz时,此装置产生300瓦的CW输出功率,25分贝的增益和80%效率。MRFE6VP6300H也包含创新的静电放电(ESD)保护,使其成为一台Class III等级的设备,同时赋予充裕的闸源(gate-source)电压范围(-6伏特到+10伏特),可在高效率模式(如Class C)下操作时增强性能。

關鍵字: 飛思卡爾 
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