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應用材料Quantum離子植入設備獲聯電選用
以支援其300mm晶圓的生產製造

【CTIMES/SmartAuto 黃明珠 報導】   2001年06月18日 星期一

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聯電已決定向應用材料公司購買多套Quantum高電流低能量離子植入設備,並安裝在台南科學園區300mm 12A晶圓廠中,這是聯電繼去年採購應用材料多套200mm Quantum機台後的最新訂單。聯電12A廠副廠長廖寬仰表示:「在針對200mm Quantum/LEAP設備進行深入評估後,我們發現唯有Quantum/LEAP設備的高電流技術,可涵蓋各種客戶的設計需求,並滿足聯華電子對於技術與效益的要求。我們選擇Quantum設備以支援300mm晶圓生產,不僅因為此設備現有的功能,也因為具有升級至其可涵蓋至下一世代0.10微米晶片設計的特性。」

應用材料公司Quantum可支援所有「導電性」(conductive)離子植入應用,涵蓋200eV超低能量植入至120keV.低能量植入技術,為0.13微米與更精密製程的一項重要技術。Quantum的廠房使用面積小,並具有由200mm延伸至300mm晶圓製程設備之特性,也是唯一被美國、亞洲、日本及歐洲等主要半導體廠商,廣泛應用於0.13微米晶圓製造的低能量離子植入設備。

根據VLSI市場研究公司之資料顯示,2000年離子植入設備市場總額為16億美元,預計到2005年時會增加為24億美元的市場規模,其中高電流及低能量離子植入設備在2000年的總額約為7.5億美元,預計2005年時會增加至8.6億美元。

關鍵字: 應用材料  聯電  半導體製造與測試 
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