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東芝推出低插入損耗的智慧型手機射頻開關SOI製程
 

【CTIMES/SmartAuto 編輯部 報導】   2015年11月25日 星期三

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東芝公司(Toshiba)半導體與儲存產品公司研發新一代TarfSOI(東芝先進的射頻絕緣矽(SOI))製程—TaRF8,該製程針對射頻(RF)開關應用進行最佳化,實現低插入損耗。採用新製程製造的SP12T射頻開關IC適用於智慧型手機,樣品出貨將於2016年1月啟動。

採用新一代TaRF8製程製造的樣品將於1月開始提供。
採用新一代TaRF8製程製造的樣品將於1月開始提供。

SP12T為一款用於行動應用的傳輸射頻開關IC,其搭載整合式MIPI-RFFE控制器,適用於3GPP GSM、UMTS、W-CDMA、LTE 和LTE-Advanced[5]標準。採用東芝新一代製程—東芝擁有專利的、針對射頻開關進行了最佳化的SOI-CMOS TarfSOI前端製程—TaRF8製造的產品實現了業界最低插入損耗(0.32db/2.7GHz)。與使用東芝當前TaRF6製程製造的產品相比,其插入損耗提高0.1dB,同時保持相同水準的失真特性。

隨著行動通訊趨向於高速率、大容量資料傳輸,智慧型手機等行動裝置所使用的射頻開關IC需要多埠支援和更高的射頻性能。在這一點上,降低插入損耗是一個尤為重要的因素,因為它降低射頻傳輸功率損耗,可支援行動裝置具備更長的電池續航時間。

東芝正在研發利用其內部晶圓廠應用SOI-CMOS技術的高性能射頻開關IC,SOI-CMOS技術適合於整合式類比和數位電路。透過處理該生產流程的所有方面,從射頻製程技術開發到射頻開關晶片的設計和製造,東芝可以根據其自己的射頻開關IC產品的研發結果回饋迅速改進SOI-CMOS製程技術。這種整合元件製造商(IDM)模式讓東芝能夠快速建立適合於實際產品的新製程技術,並在市場上推出採用最新製程技術製造的產品。東芝將繼續提高其TarfSOI製程技術的性能,並推出產品,努力滿足客戶和市場對射頻開關IC的需求。(編輯部陳復霞整理)

關鍵字: TarfSOI  射頻絕緣矽製程  射頻開關  TaRF8  東芝(Toshiba東芝(Toshiba
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