益華電腦(Cadence)與ASML的MaskTools事業群，宣佈簽署一份為期數年、價值數百萬美元的軟體授權，合作開發先進解析度增進技術（Resolution Enhancement Technology: RET）軟體解決方案。兩家公司將會密切合作，共同開發整合的DFM（Design for Manufacturability）流程。

在此協議下，Cadence益華電腦將會授權並合作開發兩個ASML MaskTools軟體套件：MaskWeaver，一個全晶片RET（full-chip RET）、具有光學鄰近效應修正功能（optical proximity correction，OPC）光罩軟體最佳化解決案，以及LithoCruiser，一個具有微影製程分析功能的軟體最佳化解決方案。

前Cadence益華電腦執行副總裁暨總經理Lavi Lev表示，"微影技術在65奈米與65奈米以下的製程強調的是，設計與微影技術之間一個新層級的互相依賴性。我們的客戶可藉由最先進設計工具與解析度增進技術，來縮短生產時程並增進產量。"有了這個新的協議，Cadence的客戶便可以在ASML MaskTools的開發小組的技術協助下，取得尖端的RET與微影技術模擬軟體。"

ASML MaskTools總裁暨執行長Dinesh Bettadapur表示，"雖然ASML與Cadence益華電腦從不同的技術領域得到客戶的肯定，但雙方擁有許多共同的客戶。Cadence益華電腦是EDA軟體領域中公認的領導者，而ASML MaskTools則在創新的製造技術與軟體產品上成名已久。我們將會一起為晶片設計師與製造廠商提供最完整的DFM產品組合。"