Mentor, a Siemens Business宣佈，該公司的Tanner類比/混合訊號（AMS）設計工具 ─ Tanner S-Edit原理圖擷取工具和Tanner L-Edit佈局編輯器 ─ 已通過TSMC的互通性PDK（iPDK）認證，可適用於台積電為大量類比IC設計提供的各種特殊製程技術。

Mentor的Tanner AMS設計工具經過最佳化，可創建自訂的類比或「Analog on Top」的混合訊號晶片（IC），適用於22奈米或以上製程。許多領先的IC供應商都採用Mentor的Tanner工具為包括汽車、穿戴裝置和工業物聯網（IoT）等廣泛市場設計高度複雜的混合訊號（AMS）元件。

「全球許多成長最快的市場越來越需要專用的混合訊號AMS晶片，以用來無縫連接類比和數位世界。Mentor的Tanner工具經過專門設計， 以滿足IC設計人員日益成長的需求，並為需要高度創新的混合訊號AMS IC提供一個理想的設計平台」 Mentor晶片設計系統總經理Greg Lebsack表示。「Tanner AMS工具現已通過台積電支援類比IC設計的特殊製程認證，這對我們的客戶來說是個大好消息，因為它可以加速上市時程並把風險降至最低。Mentor的Tanner AMS解決方案和台積電的類比IC特殊製程是協助我們共同客戶致勝市場的絕佳組合。」

台積電的特殊製程技術iPDK可協助晶片製造商滿足領先AMS IC設計的特定要求。Mentor AMS工具現已通過台積電的多項iPDK認證，包括22奈米超低功耗、28奈米高效能運算、40奈米混合訊號技術，以及適用於現今最先進類比IC的其他特殊製程技術。

台積電設計建構行銷處資深處長Suk Lee表示：「我們與Mentor的持續合作，可確保我們的共同客戶能獲得所需的EDA解決方案和服務，以支援他們在特殊節點上成功完成晶片設計和製造。這項共同努力把台積電的特殊製程技術與Mentor的先進設計工具結合在一起，使我們的客戶能在汽車、智慧穿戴裝置和工業物聯網等廣泛市場中實現創新成功。」