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EDA賽事開鑼 Mentor與Cadence彼此較勁
 

【CTIMES/SmartAuto 林彥慧 報導】   2006年08月16日 星期三

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EDA三大廠商在台灣形成三足鼎立的局面,而最近彼此動作頻頻,相互較勁意味濃厚,Mentor Graphics正式宣佈在台成立研發中心外,Cadence也不甘示弱,與瑞昱合作,瑞昱是設計和開發通訊網路、電腦週邊和多媒體應用領域IC設計廠商。Cadence與瑞昱宣布,雙方合作降低了功能性錯誤的風險。

Mentor Graphics近日於新竹舉辦EDA技術論壇。在論壇中Mentor Graphics針對可製造設計(DFM)、功能性驗證、系統設計、IC奈米設計及ESL五大主題,完整介紹了其先進的EDA設計工具。適逢Mentor Graphics成立25週年,執行長暨主席Walden Rhines特別來台,闡述EDA產業的前景與發展,同時正式宣佈 Mentor Graphics在台成立EDA研發中心。

由於看好台灣的半導體產業的潛力,Mentor Graphics 亞太區行銷總監張維德指出:「台灣半導體產業的優異表現是大家有目共睹的,數位電視及3G手機等新興應用促使台灣的IC設計業者開始轉向更為複雜且更高階的應用設計。由於看好台灣晶圓代工廠商先進的製程技術,以及台灣半導體產業的成熟發展,在台成立EDA研發中心,將就近協助我們在亞洲的客戶及晶圓代工合作夥伴,提高其競爭力,並在最短的時間內以更低的成本開發出功能更多的產品。」

而Cadence宣佈,瑞昱已經在其試驗性的multi-supply voltage(MSV)設計上採用Cadence的Encounter Conformal Low Power與Encounter Conformal Constraint Designer,降低驗證風險。Cadence的產品分層策略,針對不同的設計複雜度,提供客製化、不同層次的技術選擇。瑞昱運用Encounter Conformal Low Power在功能與結構上執行檢查,找出低耗電設計衍生的重大錯誤。Encounter Conformal Constraint Designer則幫助瑞昱快速檢測出設計過程中不一致與衝突的時序以確保合乎品質要求,並加以驗證來達成更快速的時序收斂。

IC設計的複雜度日益提升,而半導體製程技術也從90奈米跨入65奈米,這使得EDA產業必須開發具備高效能及高精準度的新技術,讓設計人員在設計、驗證、和測試程序的每一個階段都能將製造列入考慮。在這場EDA競賽跑道上,Mentor Graphics與Cadence儼然已經離開起跑線,誰會脫穎而出,有待靜靜觀察。

關鍵字: Mentor   益華電腦(CadenceEDA 
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