帳號:
密碼:
最新動態
 
產業快訊
CTIMES/SmartAuto / 新聞 /
Intermolecular組合式平台提高半導體研發速度
 

【CTIMES/SmartAuto 王岫晨 報導】   2007年07月31日 星期二

瀏覽人次:【3158】

Intermolecular宣佈推出全球第一套完全自動化的組合式半導體研發平台(combinatorial semiconductor R&D platform ),此一平台包含一系列設備系統與軟體程式,可協助晶片廠商、材料供應商和設備製造商大幅縮短新材料、新製程技術及新元件架構開發與整合的時程。

Tempus是Intermolecular最新的High-Productivity Combinatorial(HPC)平台,能讓客戶以低成本迅速開發、整合及測試前所未見的大量選擇方案,進而創造最大的研發投資報酬率。

Intermolecular的HPC技術源自於在能源、醫藥、生技和其它由新材料出現所帶動之產業中廣泛應用超過15年的技術,無論速度或效能都已通過最嚴格的考驗。Intermolecular帶領半導體產業開發HPC和HPC衍生技術並將其商品化,其擁有的智慧財產權包括700多項已取得或正在申請中的專利。

選在SEMICON West 2007前夕推出Tempus HPC平台,Intermolecular創辦人暨執行長David Lazovsky指出,由於傳統研發方式缺乏效率,不但會對許多公司造成龐大的財務負擔,甚至還會影響其創新速度以致無法維持市場競爭力。

「經濟考量對半導體產業研發的重要性已超過技術綜效。」Lazovsky進一步表示,「技術上的挑戰不僅依然存在,其難度更急遽增高。舉例而言,新材料整合現已超越製程微縮,成為推動元件效能提升更重要的關鍵。IC產業已開始運用化學元素週期表發展下一代電子元件,但它所需的新製程與整合方法可能還要好幾年才會出現。為協助客戶因應這些挑戰,Intermolecular開發了一套互補性的Tempus技術平台,期望能大幅超越傳統研發方式,協助客戶提高研發效率。」

Tempus HPC產品與服務平台包括適用於自我組裝(self-assembly)、表面處理、清洗製程和化學鍍(electroless deposition)的流體應用產品線(Fluids Line),以及適用於資料非揮發性記憶體、高介電值 (high-k) 與金屬閘極、以及先進導線連接等應用的物理氣相沉積產品線(Physical Vapor Deposition Line)。

Intermolecular的客戶可透過不同方式應用HPC技術,包括與Intermolecular的跨領域研究團隊進行協同開發計劃、採購Tempus系統、或是取得Intermolecular的IP使用授權等,以提高產品開發效率並縮短產品上市時程,這些都是傳統研發方式難以提供的重要競爭優勢。Intermolecular的客戶包括北美、歐洲和亞洲的主要晶片廠商、材料供應商與設備製造商。

半導體產業協會(SIA)總裁暨Intermolecular董事George Scalise表示:「由於消費性電子產品所帶動的汰換率愈來愈高,使得半導體元件的創新週期大幅縮短,因此我們必須尋找新方法以改善半導體元件的研發效率。Intermolecular的Tempus HPC平台可提供半導體研發機構一套強大的新工具,徹底改變新世代產品的上市成本。」

關鍵字: Intermolecular  半導體製造與測試 
相關新聞
Intermolecular與爾必達合作研發次世代記憶體技術
comments powered by Disqus
相關討論
  相關文章
» 最佳化大量低複雜度PCB測試的生產效率策略
» 確保裝置互通性 RedCap全面測試驗證勢在必行
» ESG趨勢展望:引領企業邁向綠色未來
» 高階晶片異常點無所遁形 C-AFM一針見內鬼
» 高速傳輸需求飆升 PCIe訊號測試不妥協


刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3  v3.20.2048.18.190.253.22
地址:台北數位產業園區(digiBlock Taipei) 103台北市大同區承德路三段287-2號A棟204室
電話 (02)2585-5526 #0 轉接至總機 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw