據Digitimes報導，全球半導體製程藍圖制定委員會（International Technology Roadmap for Semiconductors；ITRS）台灣代表盧志遠指出，台積電主導的65奈米以下光罩製作之浸潤式微影技術（Immersion Lithography），將與無線IC製程一同列入此次ITRS藍圖中；另外，由於技術難度增高等因素影響，盧志遠表示半導體製程時代自2003年開始，又將恢復3年1個世代的週期。

盧志遠在2003年ITRS會前記者會中表示，半導體製程將自2004年起進入90奈米時代，而在台積電的大力推動下，針對65奈米半導體製程光罩制作提出的Immersion Lithography技術，此次將列入ITRS藍圖編定，ITRS估計，65奈米半導體製程將在2007年成為半導體製程主流，但2010年進入50奈米半導體製程時代後，微縮技術將面臨瓶項。

另外，由於矽半導體業者近年來積極發展無線IC相關製程，目前已可量產頻率高達5GHz的射頻IC，加上矽晶圓與矽鍺晶圓（SiGe）（目前用於生產5GHz～10GHz無線IC）之間並無技術鴻溝，因此估計未來矽晶圓業者生產的無線IC將進展至10GHz的水準，這也將列入此次ITRS製程藍圖編定。

盧志遠表示，1990年代半導體製程發展技術超前ITRS的進度，每世代半導體製程技術，由60年代、70年代每3年1週期縮短為2年1週期，不過在整體市場需求、技術門檻愈來愈高、業者放慢擴產動作等障礙下，估計2003年起半導體製程世代演進，將再恢復到3年1次的週期。