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ASML MaskTools與Mentor Graphics達成合作協議
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   1999年12月22日 星期三

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為了克服半導體設計與「次波長」(sub-wavelength)製造間日益擴大的障礙,ASML MaskTools公司,與Mentor Graphics最近就簽訂了一項合作協議,它將會結合雙方在影像處理設備、軟體和先進製程方面的技術和經驗,並且發展出一套完全整合的製程解決方案,MaskTools是ASML公司獨資擁有的一家關係企業。如果客戶想要成功的設計出次波長電路結構的晶片、加速深次微米技術的升級、並且提升晶片的製造良率,那麼這套解決方案將是不可或缺的要件。除此之外,這也是一家先進影像技術的供應商-也就是ASML公司-與一家佔市場領導地位的電子設計自動化廠商-也就是Mentor Graphics公司-之間所達成的第一項合作協議。

今天,晶片的製程已經縮小到0.13微米以下,這只等於是光波長的一半;此時,若要把晶片的製造良率提升到一個可接受的範圍,那麼全晶片的可製造性驗証以及光學加強技術就是非常重要的關鍵;光學加強技術包括了「光學製程校正」(Optical Proximity Correction;OPC)技術、「相位偏移光罩」(Phase Shifting Mask;PSM)技術、「散射屏障」(scattering bars)以及「偏軸照明」(off-axis illumination)技術,它們可以加強有的「光學微影程序」(optical lithography),並且支援一些更精密的應用領域;過去,廠商大都認為只有下一代的微影程序才能滿足這些應用需求。

在這些應用領域中,Mentor Graphics、MaskTools以及ASML公司各有專長,他們將會透過自己的知識和經驗,利用多種的光學製程加強技術,以滿足全晶片可製造性的驗証需求。舉例來說,ASML提供了它的IP元件、先進的影像處理系統、研究設施、散射屏障處理技術以及相關的矽晶片可製造性經驗;Mentor Graphics則提供了Calibre套裝工具系列,在晶片的實體驗証和可製造性分析上,它們可說是業界的標準工具,包括了Calibre OPCpro、Calibre PSMgateTM和它的晶片/佈局對照驗証工具、Calibre ORCTM以及Calibre PRINTimage。透過雙方的合作,兩家公司就能提供速度最快、精確度又很高的全晶片電路模型建立與製程校正技術,這包括了光罩生產的效應、先進的影像處理、光阻與蝕刻效應。

「透過這項聯盟,我們不僅擴大了光學微影程序的壽命,而且還開創了一個全新的市廠-也就是可製造性驗証的市場。」ASML MaskTools公司的總裁Doug Marsh就表示說,「這個市場包含了電子設計自動化和半導體製造產業中的大多數廠商,而經由雙方的合作,ASML MaskTools以及Mentor Graphics公司提供了一個完整的製造性解決方案,可以支援目前和未來的光學微影技術。」

「ASML公司擁有先進的製造技術和經驗,我們的Calibre工具則把「光學製程校正」和「相位偏移光罩」組合在一起,並且提供了高度整合的實體驗証和次波長可製造性技術。」Mentor Graphics實體與靜態驗証部門的總經理Brian Derrick表示說,「透過了雙方的合作,從積體電路的佈局開始,一直到矽晶片可製造性的驗証,我們都提供了業界最先進、使用最簡單的處理流程。我們非常期盼能在ASML公司的美國技術發展中心與他們共同合作,將光阻、光罩、曝光光源以及鏡片設計程序做最佳處理,並且把一個完整的可製造性解決方案提供給雙方的共同客戶。」

關鍵字: 次波長  全晶片  矽晶片  Calibre套裝工具  電子設計  ASML MaskTools  明導國際(Mentor GraphicsASML  Doug Marsh  實體與靜態驗  EDA 
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