半導體製造準分子雷射光源供應商-Cymer,日前宣佈它已經和一家微影設備主要供應商達成銷售協議,把總金額超過7,900萬美元的ELS-7000氪氟雷射光源提供給這家公司;ELS-7000是Cymer現有光源產品中最先進的氪氟雷射光源。根據這項採購協議,從現在開始一直到2003年底,Cymer將分批把這些光源設備提供給客戶。
Cymer總裁暨執行長Pascal Didier表示:「我們致力把更高的產品價值帶給客戶,滿足他們對於Cymer期望,這項合約顯示我們的努力已獲得成功;此外,它也證明我們的技術足以推動目前最先進微影設備,滿足客戶對這些技術的嚴格要求。整體來說,我們相信這份協議已清楚指出,ELS-7000正迅速為市場接受,成為今日最先進248 nm應用的最佳光源選擇。」
Cymer指出,ELS-7000可在4 kHz頻率下提供30W平均輸出功率,並支援最高掃瞄速度,為客戶帶來最大生產力和晶圓產出;對於200mm和300mm微影掃瞄機,即使它們使用數值孔徑大於0.8的鏡頭,ELS-7000也可提供完整的影像能力。這套光源設備還擁有高度窄線化頻寬,半波全高(FWHM)( 0.5 pm,95%能量範圍 ( 1.4 pm,使它得以提供更好的頻譜效能。