明导国际(Mentor Graphics)宣布推出Calibre OPCverify工具。Calibre OPCverify代表光学制程修正技术(OPC)的新时代已经来临，它的出现让Mentor可制造设计(DFM)产品线更强大。半导体厂商可以利用Calibre OPCverify管理制程变异对芯片良率的冲击。

Calibre OPCverify使用已通过芯片验证的Calibre OPCpro仿真模型，这种下一代RET验证工具提供100%的芯片仿真涵盖范围以确保芯片图案转移成功。Calibre OPCverify像素式仿真引擎所采用的专利算法可定义不利于图案转移的各种条件(掺杂浓度、焦距)，进而克服制程变异所产生的负面影响。Calibre OPCverify的所有建模功能都已针对湿浸式微影技术(immersion lithography)等最先进制程条件完成彻底的特性分析。Calibre OPCverify工具还采用最严谨的模型开发与验证方法，这使它能同时满足RET配方验证和光罩检验的最严苛要求。

Calibre OPCverify可透过一套称为Calibre Verification Center的用户界面完成安装与设定工作。用户只要利用Calibre OPCVerify和Calibre Verification Center，就能在24小时内把完整精确的RET光罩验证流程完美整合至现有的后布局流程。

使用Calibre OPCverify和Calibre Verification Center的另一优点是这些工具都能以最佳方式利用现有硬件，例如它们能结合今日工作站的高速运算效能和Calibre Mtflex的并行处理能力来大幅缩短全芯片RET验证的TAT时间 (Turn Around Time)。由于这套工具与所用的设计方法无关，用户将会发现验证所需时间稳定而能预测，整套工具也具备良好的扩充性。虽然实际验证时间与所用硬件有关，Calibre OPCverify兆像素仿真器可以扩充使用数百颗处理器，同时支持展平式或阶层式设计。

「后OPC流程输出验证可将高成本的光罩重制过程和上市时间延误减至最少。」特许半导体 (Chartered Semiconductor) 技术开发事业群的技术支持部门OPC经理Choi Byoung Il表示，「我们可以利用微影制程适用范围的验证能力扩大目前所使用的图案转移精确度检查方法，这能让我们更早发现易受制程影响的芯片结构，进而改善OPC的质量。」

「90奈米和更先进制程使得OPC更复杂和限制更多，因此需进行验证以避免芯片发生问题。」Mentor Graphics设计与制造部门副总裁暨总经理Joe Sawicki表示，「Calibre OPCverify能节省光罩成本和提供更稳定的良率，这能为客户带来理想的投资报酬率。」