账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
台积公司0.13微米十二吋晶圆制造技术良率达到生产水平
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2001年10月24日 星期三

浏览人次:【4769】

台湾集成电路制造股份有限公司指出,该公司位于新竹科学园区的全规模十二吋晶圆厂--晶圆十二厂,缔造了业界新纪录,率先以0.13微米全铜制程技术产出台积公司的SRAM测试芯片,并且已达到与相同制程八吋晶圆相当的高良率,再次成功地验证十二吋晶圆制造技术良率已达到生产水平。

台积公司晶圆十二厂系业界第一座具备0.13微米十二吋晶圆生产技术的全规模十二吋晶圆厂。目前,已有一家客户的SRAM产品于晶圆十二厂开始投片生产。此外,也有多家客户已经排定时程,将利用晶圆十二厂的制造服务来生产其先进的0.13微米产品。各家客户的产品预计将于2002年第一季起陆续完成其产品质量相关认证。

台积公司营销副总经理胡正大博士表示:「台积公司自成立以来,就不断致力于为客户提供新的制程技术及服务,以提升客户的竞争力。台积公司晶圆十二厂不仅自晶圆六厂的十二吋试产线成功地移转0.13微米全铜制程技术,更领先业界,证明其0.13微米十二吋晶圆制造技术的能力及良率已与八吋晶圆相当。此项能力及服务,可以满足客户先进产品对0.13微米的十二吋制程技术的需求,同时将可更进一步提升客户的竞争优势。」

台积公司晶圆十二厂厂长林俊吉表示:「禀承先前在晶圆六厂十二吋试产线所奠定的制程基础,加上晶圆十二厂全体同仁的努力不懈,晶圆十二厂迅速达到具备0.13微米十二吋晶圆的生产制造能力,并且展现优秀的制程良率,时程上已经超越原先我们所订定的目标。」

台积公司晶圆十二厂甫于今年8月份使用0.15微米十二吋晶圆制程技术成功试产出测试芯片及客户产品。如今,又迅速于2个月后成功验证0.13微米十二吋晶圆制造技术的高良率水平,再次彰显台积公司为客户提供最先进制程技术及服务的决心。

關鍵字: 晶圆  台積電  胡正大 
相关新闻
2025国际固态电路研讨会展科研实力 台湾21篇论文入选再创新高
新思科技与台积电合作 实现数兆级电晶体AI与多晶粒晶片设计
Ansys、台积电和微软合作 提升矽光子元件模拟分析速度达10倍
台积电扩大与Ansys合作 整合AI技术加速3D-IC设计
东台偕日商DC叁展SEMICON 抢进晶圆加工商机
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 挥别制程物理极限 半导体异质整合的创新与机遇
» 跨过半导体极限高墙 奈米片推动摩尔定律发展
» 未来无所不在的AI架构导向边缘和云端 逐步走向统一与可扩展
» 关於台积电的2奈米制程,我们该注意什麽?
» 灯塔工厂的关键技术与布局


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8C1BJ7DOGSTACUKS
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw