Intel誓言在45nm之后，摩尔定律将延续不变。Intel的LSI技术策略研究员暨技术策略总监Paolo A. Gargini表示，即使在45nm以后，也将延续每两年晶体管数量倍增的晶圆制程技术。继2007年下半年量产的45nm之后，Intel于2009年将开始32nm制程、2011年将开始22nm制程的量产。此外，透过导入多栅极构造及新沟道材料技术的改进，摩尔定律将延续至往后10～15年。

Intel致力于CMOS晶体管的技术革新，并以45nm制程的高介电率绝缘膜及金属栅极的实用化为发展方向。Intel一直默默研究如何减低45nm制程量产时的组件缺陷，因此良率以和过去65nm制程相同的速度提高。

关于32nm的曝光技术，Intel表示将导入使用纯水的液浸ArF曝光技术，透过光学临近修正（OPC）及相移掩膜技术的改进来达成。而EUV（超紫外线）曝光则将在22nm制程以后使用。