国际半导体设备大厂应用材料宣布该公司Applied Producer化学气相沉积（CVD）系统已出货超过750套，这些客户并采用其黑钻石低介电常数（Black Diamond low dielectric）技术来进行沉积作业。其中在750套已安装好的Producer系统中，有超过200套是装设于12吋晶圆厂内。

应材副总裁暨介电系统与模块产品事业群总经理Farhad Moghadam表示，结合多世代制程技术的Producer系统之单晶圆设计，能提供芯片制造商在制程控制与弹性优势上，远超出批量系统。而这些优势对于新的芯片世代也变得益显重要，因为超薄层需有良好的硬件技术，在专一且严格控制的环境中，才能执行多道复杂的沉积步骤。

应材指出，Producer平台可以安装6个单晶圆制程工作台，以达到高弹性度及高生产力。而系统中最先进的CVD应用──黑钻石薄膜（Black Diamond），已成为业界低介电常数薄膜的首选，以提升先进芯片产品的速度及降低耗能。其他的Producer系统的应用则包含了产业内最广泛的二氧化硅及氮化硅薄膜，包括臭氧／正硅酸乙酯（TEOS）薄膜，这是用在逻辑和记忆芯片所需的覆盖及填充沉积物。

在闸极结构上，Producer系统能藉由先进图样薄膜（Advanced Patterning Film）以及应用于193奈米曝光的抗反射介电覆膜（DARC），让芯片制造商能提升微影技术的控制能力，用在90奈米及以下的产品需要的薄闸极电介质层。