网站SBN指出，半导体设备供货商大厂美商应用材料（Applied Materials）日前宣布，该公司最新RETicleSEM系统，将运用在65奈米光罩及相关应用产品方面；该系统乃是应用材料进军光罩量测（mask metrology）市场的第一步。

该报导指出，应材之RETicleSEM系统可支持各种光罩应用产品，且同时量测光罩及晶圆，协助芯片供货商得以交互参照其在晶圆表面上所建立的图案，藉以确保产出质量。该公司制程诊断与控制产品事业群（Process Diagnostics and Control Product business group）副总裁暨总经理Gilad Almogy表示，该款系统乃是应用材料首度进军光罩量测（mask metrology）市场的产品。

据市调机构Gartner Dataquest调查报告指出，全球光罩量测系统市场规模2003年将达1500万美元，预估在2005年以前可成长到4400万美元市场规模；应用材料欲抢食市场大饼的企图不言可喻。