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DRAM业者转0.11微米制程 时程将延后
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2003年02月12日 星期三

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据经济日报报导,由于DRAM业者筹资管道不顺,三星、美光及英飞凌等大厂转进新世代制程脚步放缓,国内四大DRAM厂0.11微米制程转换也延后,预计要到第四季才能小量生产。业者预期,今年全球DRAM产能增加幅度,可能低于50%。

茂德营业处长林育中表示,过去DRAM厂的制程转换周期,大约是四到五季完成一个世代,不过从0.14微米开始,有延后的现象,预计0.11微米,可能要六季,也就是一年半才会完成制程转换。林育中指出,全球DRAM厂中,三星最为积极,内部评估第四季有七成产能出自0.11微米,其余如美光、英飞凌及南科等厂商,都要到明年才能全数转换,因此整体评估,全球DRAM产能增加幅度,大约在50%左右。

根据转换时程,华邦电、南亚科技及茂德技术同样来自英飞凌,三家公司预计今年第四季转进0.11微米,正式进入量产,不过良率趋于稳定,可能延至明年第一季。力晶采用堆叠式(Stack)架构,进度与上述三大厂商不同,预计下半年微缩至0.12微米,至于技转自Elpida的0.1微米制程,则要到明年第二季才能量产,进度稍微落后​​。

华邦电总经理章青驹表示,该公司0.11微米制程要到下半年才会正式销货,按照合约规定,全数售予合作伙伴英飞凌。南亚科技执行副总经理高启全则表示,以现况分析,转进0.11微米的重要性高于12吋晶圆厂,不过,设备商已停止研发用于8吋晶圆厂的90奈米制程,因此,12吋厂将维系长期发展的竞争力。

關鍵字: 茂德  三星  美光  英飛凌  动态随机存取内存 
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