據Digitimes報導，目前大陸晶圓製程雖大多未能達到奈米等級，但在深次微米製程中已開始注重設計驗證平台的使用，包括中芯國際、華虹NEC等業者均在設計驗證平台中，分別導入Synopsys和Mentor Graphis等驗證技術，並在0.18、0.25微米以及0.35微米製程技術中，採用標準化國際驗證工具，足見大陸在深次微米部分已達到世界同等水準。

近來中國大陸許多晶片廠在進入奈米製程技術後，紛對其生產線驗證進行調整，並在深次微米階段也逐步進行設計驗證，以及生產驗證等平台改造，包括Synopsys、Mentor Graphis等均在晶圓廠中推出不同平台。據業界人士指出，在晶圓製程中，IC設計驗證極為關鍵，類比環境中晶片工作情況的細緻分析，將有助於保證晶片生產成功率，甚至達到一次成功的目的，這也是晶圓代工廠提供給IC設計公司服務工作的重點。

就晶圓代工廠而言，其所提供必要設計服務怎樣使IC設計公司降低風險，並快速佔領市場，是其設計服務部門主要使命。而其與IC設計公司配合，使用對應的EDA開發工具，使得EDA工具供應商、IC設計公司、半導體晶圓廠3者完美配合，以便在驗證平台保持一致性，從而達到高效率生產的最終目的。